| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第7-14页 |
| 1.1 引言 | 第7-8页 |
| 1.2 基于近场增强的纳米加工相关理论基础 | 第8-10页 |
| 1.3 基于近场增强的纳米加工研究现状 | 第10-12页 |
| 1.4 本文的主要工作 | 第12-14页 |
| 第二章 单一粒子的近场分布研究 | 第14-25页 |
| 2.1 引言 | 第14页 |
| 2.2 Au和Si纳米粒子的近场分布 | 第14-22页 |
| 2.3 TiO_2纳米粒子的近场分布 | 第22-24页 |
| 2.4 本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 阵列TiO_2纳米粒子近场分布的研究 | 第25-35页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 模拟设置 | 第25-26页 |
| 3.3 阵列TiO_2粒子在Si基底表面近场分布的研究 | 第26-30页 |
| 3.4 不同基底表面TiO_2阵列近场增强及其物理机制分析 | 第30-33页 |
| 3.5 本章小结 | 第33-35页 |
| 第四章 纳米结构辅助飞秒激光诱导基底表面周期条纹分布 | 第35-43页 |
| 4.1 引言 | 第35页 |
| 4.2 纳米球辅助飞秒激光诱导基底表面周期条纹分布 | 第35-37页 |
| 4.3 其他典型纳米结构辅助飞秒激光诱导基底表面周期条纹分布 | 第37-41页 |
| 4.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 总结 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-48页 |
| 附录 | 第48页 |
