| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 1 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 量子阱 | 第10-11页 |
| 1.2 ZnO的基本性质 | 第11-14页 |
| 1.2.1 ZnO的晶体结构及主要物理参数 | 第11-12页 |
| 1.2.2 ZnO的光学性质 | 第12-14页 |
| 1.3 ZnO量子阱的垒层材料——ZnMgO合金性质 | 第14-15页 |
| 2 ZnO/ZnMgO多量子阱的制备工艺及表征方法 | 第15-23页 |
| 2.1 ZnO/ZnMgO多量子阱的制备工艺 | 第15-17页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积基本原理及特点 | 第15-16页 |
| 2.1.2 其他制备技术 | 第16-17页 |
| 2.2 ZnO/ZnMgO多量子阱的表征 | 第17-23页 |
| 2.2.1 薄膜结构的表征：X射线衍射技术(XRD) | 第17-18页 |
| 2.2.2 透射光谱 | 第18-19页 |
| 2.2.3 光致发光光谱(PL) | 第19-21页 |
| 2.2.4 原子力显微镜(AFM) | 第21-23页 |
| 3 PLD设备改进 | 第23-30页 |
| 3.1 PLD设备中加热器的改进 | 第23-25页 |
| 3.1.1 加热器改进的必要性及方案 | 第23-24页 |
| 3.1.2 加热器对PLD制备ZnO薄膜形貌的影响 | 第24-25页 |
| 3.2 PLD设备中激光光源的改进 | 第25-29页 |
| 3.2.1 PLD设备中的激光光源——Nd：YAG激光器 | 第25-26页 |
| 3.2.2 激光器输出波长对ZnO薄膜生长的影响 | 第26-29页 |
| 3.3 本章小结 | 第29-30页 |
| 4 ZnO和ZnMgO单层膜的分析 | 第30-34页 |
| 4.1 ZnO和ZnMgO单层膜的制备 | 第30页 |
| 4.2 ZnO和ZnMgO单层膜的表征 | 第30-33页 |
| 4.3 本章小结 | 第33-34页 |
| 5 ZnO/ZnMgO多量子阱的制备与分析 | 第34-45页 |
| 5.1 ZnO/ZnMgO多量子阱制备实验参数 | 第34页 |
| 5.2 ZnO/ZnMgO多量子阱制备结构表征分析 | 第34-37页 |
| 5.3 ZnO/ZnMgO多量子阱的光学特性 | 第37-43页 |
| 5.3.1 ZnO的光致发光特性 | 第37-38页 |
| 5.3.2 室温光谱分析结果 | 第38-41页 |
| 5.3.3 低温光谱分析结果 | 第41-43页 |
| 5.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 结论 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
