| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 引言 | 第9-11页 |
| 1 ZnO纳米结构简介 | 第11-15页 |
| 1.1 ZnO纳米结构的基本性质 | 第11-12页 |
| 1.2 ZnO纳米结构的性能 | 第12-14页 |
| 1.2.1 力学性能 | 第12页 |
| 1.2.2 场发射性能 | 第12-13页 |
| 1.2.3 压电性能 | 第13页 |
| 1.2.4 光电性能 | 第13-14页 |
| 1.3 ZnO纳米结构的应用 | 第14-15页 |
| 2 ZnO纳米结构的制备方法及表征手段 | 第15-28页 |
| 2.1 ZnO纳米结构的生长机制 | 第15-17页 |
| 2.1.1 气-固机(V-S) | 第15-16页 |
| 2.1.2 气-液-固机(V-L-S) | 第16-17页 |
| 2.1.3 其他生长机制 | 第17页 |
| 2.2 ZnO纳米结构的制备方法 | 第17-23页 |
| 2.2.1 化学气相沉积(CVD) | 第18-19页 |
| 2.2.2 磁控溅射 | 第19-20页 |
| 2.2.3 分子束外延(MBE) | 第20-21页 |
| 2.2.4 金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第21-22页 |
| 2.2.5 脉冲激光沉积(PLD) | 第22-23页 |
| 2.3 常用的表征分析手段 | 第23-25页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第23-24页 |
| 2.3.2 X射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
| 2.3.3 光致发光谱(PL谱) | 第25页 |
| 2.4 本实验所用设备 | 第25-28页 |
| 2.4.1 设备组成 | 第26页 |
| 2.4.2 温度控制 | 第26-28页 |
| 3 真空CVD法制备高质量的ZnO纳米结构 | 第28-33页 |
| 3.1 实验过程 | 第28-29页 |
| 3.2 实验结果与分析 | 第29-31页 |
| 3.2.1 表面形貌 | 第29页 |
| 3.2.2 晶体结构 | 第29-30页 |
| 3.2.3 光学性质研究 | 第30-31页 |
| 3.3 生长机理分析 | 第31-32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 4 真空CVD法在不同生长条件下制备ZnO纳米结构 | 第33-46页 |
| 4.1 不同生长时间制备ZnO纳米结构 | 第33-37页 |
| 4.1.1 实验过程 | 第33-34页 |
| 4.1.2 结果分析 | 第34-36页 |
| 4.1.3 本节小结 | 第36-37页 |
| 4.2 不同衬底上制备ZnO纳米结构 | 第37-41页 |
| 4.2.1 实验过程 | 第37页 |
| 4.2.2 结果分析 | 第37-40页 |
| 4.2.3 本节小结 | 第40-41页 |
| 4.3 不同沉积温度下制备ZnO纳米结构 | 第41-45页 |
| 4.3.1 实验过程 | 第41页 |
| 4.3.2 实验结果与分析 | 第41-44页 |
| 4.3.3 本节小结 | 第44-45页 |
| 4.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |