新型光致聚合物的全息存储性能评价及存储机理研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第 1 章 绪论 | 第9-14页 |
1.1 课题背景及研究目的和意义 | 第9-10页 |
1.2 国内外研究现状 | 第10-12页 |
1.2.1 国外光致聚合物研究进展 | 第10-11页 |
1.2.2 国外光致聚合物用于全息光盘的进展 | 第11页 |
1.2.3 国内研究进展 | 第11-12页 |
1.3 课题来源及论文主要内容 | 第12-14页 |
第 2 章 全息存储基本理论 | 第14-21页 |
2.1 全息存储的基本原理 | 第14-17页 |
2.1.1 体全息记录和再现 | 第14-15页 |
2.1.2 耦合波理论 | 第15页 |
2.1.3 透射体全息图的衍射效率 | 第15-16页 |
2.1.4 透射体全息图的选择角 | 第16-17页 |
2.2 光致聚合物的组成和记录机理 | 第17-20页 |
2.2.1 光致聚合物的组成 | 第17-18页 |
2.2.2 光致聚合物的记录机理 | 第18-19页 |
2.2.3 光致聚合物的扩散模型 | 第19-20页 |
2.3 本章小结 | 第20-21页 |
第 3 章 光致聚合物的性能评价体系 | 第21-40页 |
3.1 性能评价体系 | 第21-31页 |
3.2 绿光做记录光测试 | 第31-35页 |
3.2.1 实验样片介绍 | 第31-32页 |
3.2.2 实验系统 | 第32-33页 |
3.2.3 实验结果 | 第33-35页 |
3.3 蓝光做记录光测试 | 第35-39页 |
3.3.1 实验样片介绍 | 第35-36页 |
3.3.2 实验系统 | 第36-38页 |
3.3.3 实验结果 | 第38-39页 |
3.4 本章小结 | 第39-40页 |
第 4 章 光致聚合物的记录机理研究 | 第40-50页 |
4.1 不同强度曝光对反应速度的影响 | 第40-41页 |
4.2 不同厚度光致聚合物的全息性能 | 第41-45页 |
4.2.1 长时间记录曲线 | 第41-42页 |
4.2.2 选择角 | 第42-43页 |
4.2.3 灵敏度 | 第43-44页 |
4.2.4 其它全息参数比较 | 第44-45页 |
4.3 记录后处理实验(残余单体的影响) | 第45-49页 |
4.3.1 记录后暗保存 | 第45-46页 |
4.3.2 短暂的扩散时间后均匀曝光 | 第46-47页 |
4.3.3 不同的扩散时间后均匀曝光 | 第47-49页 |
4.3.4 残留单体对光栅影响小结 | 第49页 |
4.4 本章小结 | 第49-50页 |
第 5 章 光致聚合物中的等衍射效率全息复用 | 第50-57页 |
5.1 光致聚合物的曝光特性 | 第50-51页 |
5.2 等衍射效率记录方案 | 第51页 |
5.3 实验 | 第51-54页 |
5.4 实验结果及讨论 | 第54-56页 |
5.5 本章小结 | 第56-57页 |
结论 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-63页 |
攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第63-64页 |
致谢 | 第64页 |