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垂直光磁记录薄膜的制备与测试方法研究

摘要第3-4页
Abstract第4页
第1章 绪论第7-17页
    1.1 研究的背景和意义第7-9页
    1.2 磁电阻效应第9-11页
    1.3 垂直光磁记录第11-14页
    1.4 Co基半金属赫斯勒合金第14-17页
第2章 薄膜的制备及表征第17-23页
    2.1 样品的制备第17-20页
        2.1.1 基片清洗第17页
        2.1.2 磁控溅射第17-18页
        2.1.3 超高真空磁控溅射仪第18-20页
    2.2 薄膜性质表征第20-23页
        2.2.1 薄膜磁学性质测量第20-21页
        2.2.2 薄膜结构分析第21-23页
第3章 磁光电测量系统第23-27页
    3.1 测量原理第23-25页
        3.1.1 磁光克尔效应的测量原理第23-24页
        3.1.2 异常霍尔效应的测量原理第24-25页
    3.2 磁光和磁电特性同步测试系统第25-27页
第4章 TbFeCo薄膜的制备及性能的研究第27-35页
    4.1 引言第27页
    4.2 TbFeCo薄膜的制备第27-28页
    4.3 实验结果与分析第28-33页
    4.4 小结第33-35页
第5章 Co_2FeAl_(0.5)Si_(0.5)薄膜的制备及性能研究第35-45页
    5.1 引言第35页
    5.2 Co_2FeAl_(0.5)Si_(0.5)薄膜的制备第35-36页
    5.3 实验结果与分析第36-42页
        5.3.1 不同Pd缓冲层厚度对多层膜垂直磁各向异性的影响第36-37页
        5.3.2 不同磁性层厚度对多层膜垂直磁各向异性的影响第37-38页
        5.3.3 不同退火温度对多层膜垂直磁各向异性的影响第38-40页
        5.3.4 不同退火温度对薄膜面内磁各向异性的影响第40-42页
    5.4 小结第42-45页
第6章 总结第45-47页
参考文献第47-53页
致谢第53-55页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第55页

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