| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第1章 绪论 | 第7-17页 |
| 1.1 研究的背景和意义 | 第7-9页 |
| 1.2 磁电阻效应 | 第9-11页 |
| 1.3 垂直光磁记录 | 第11-14页 |
| 1.4 Co基半金属赫斯勒合金 | 第14-17页 |
| 第2章 薄膜的制备及表征 | 第17-23页 |
| 2.1 样品的制备 | 第17-20页 |
| 2.1.1 基片清洗 | 第17页 |
| 2.1.2 磁控溅射 | 第17-18页 |
| 2.1.3 超高真空磁控溅射仪 | 第18-20页 |
| 2.2 薄膜性质表征 | 第20-23页 |
| 2.2.1 薄膜磁学性质测量 | 第20-21页 |
| 2.2.2 薄膜结构分析 | 第21-23页 |
| 第3章 磁光电测量系统 | 第23-27页 |
| 3.1 测量原理 | 第23-25页 |
| 3.1.1 磁光克尔效应的测量原理 | 第23-24页 |
| 3.1.2 异常霍尔效应的测量原理 | 第24-25页 |
| 3.2 磁光和磁电特性同步测试系统 | 第25-27页 |
| 第4章 TbFeCo薄膜的制备及性能的研究 | 第27-35页 |
| 4.1 引言 | 第27页 |
| 4.2 TbFeCo薄膜的制备 | 第27-28页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第28-33页 |
| 4.4 小结 | 第33-35页 |
| 第5章 Co_2FeAl_(0.5)Si_(0.5)薄膜的制备及性能研究 | 第35-45页 |
| 5.1 引言 | 第35页 |
| 5.2 Co_2FeAl_(0.5)Si_(0.5)薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 5.3 实验结果与分析 | 第36-42页 |
| 5.3.1 不同Pd缓冲层厚度对多层膜垂直磁各向异性的影响 | 第36-37页 |
| 5.3.2 不同磁性层厚度对多层膜垂直磁各向异性的影响 | 第37-38页 |
| 5.3.3 不同退火温度对多层膜垂直磁各向异性的影响 | 第38-40页 |
| 5.3.4 不同退火温度对薄膜面内磁各向异性的影响 | 第40-42页 |
| 5.4 小结 | 第42-45页 |
| 第6章 总结 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-53页 |
| 致谢 | 第53-55页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第55页 |
