| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-30页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 太阳能电池 | 第9-15页 |
| 1.2.1 光伏太阳能产业的发展历程 | 第9-11页 |
| 1.2.2 太阳电池的研究水平和光伏产业现状 | 第11-15页 |
| 1.3 晶体硅太阳能电池工作原理与生产工艺 | 第15-20页 |
| 1.3.1 晶体硅太阳能电池工作原理 | 第15-17页 |
| 1.3.2 太阳能电池的构造及生产工艺 | 第17-20页 |
| 1.4 论文相关研究体系介绍 | 第20-28页 |
| 1.4.1 晶硅太阳能电池绒面(Texture)制备技术 | 第20-23页 |
| 1.4.2 晶体硅太阳能电池钝化(Passivation)技术 | 第23-26页 |
| 1.4.3 晶体硅太阳能电池发展趋势 | 第26-28页 |
| 1.5 本论文的研究目的以及意义 | 第28-30页 |
| 第二章 实验试剂及仪器 | 第30-32页 |
| 2.1 实验主要试剂及实验仪 | 第30-32页 |
| 2.1.1 化学试剂及药品 | 第30页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第30-32页 |
| 第三章 液相沉积(LPD)技术的拓展 | 第32-46页 |
| 3.1 前言 | 第32-33页 |
| 3.2 Si表面LPD法沉积SiO_2薄膜机理及实验内容 | 第33-36页 |
| 3.2.1 LPD法在Si表面沉积SiO_2机理 | 第33-34页 |
| 3.2.2 Si片预处理 | 第34-35页 |
| 3.2.3 制备LPD前驱体溶液 | 第35页 |
| 3.2.4 LPD沉积Si表SiO_2薄膜 | 第35-36页 |
| 3.3 LPD-SiO_2@Si表征结果与讨论 | 第36-42页 |
| 3.3.1 LPD-SiO_2薄膜比色 | 第36-37页 |
| 3.3.2 反应温度对LPD沉积SiO_2薄膜的影响 | 第37-40页 |
| 3.3.3 LPD-SiO_2薄膜的形态结构 | 第40页 |
| 3.3.4 LPD-SiO_2薄膜的FTIR表征 | 第40-42页 |
| 3.4 LPD-SiO2薄膜的碱腐蚀耐受性测试 | 第42-44页 |
| 3.4.1 实验测试方法 | 第42页 |
| 3.4.2 实验结果与讨论 | 第42-44页 |
| 3.5 小结与展望 | 第44-46页 |
| 第四章 全湿法单晶硅单面制绒技术探索 | 第46-58页 |
| 4.1 前言 | 第46-48页 |
| 4.2 实验部分 | 第48-49页 |
| 4.2.1 LPD-SiO_2阻挡层保护下的单晶Si单面制绒 | 第48-49页 |
| 4.2.2 Si片前后表面的表征 | 第49页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第49-57页 |
| 4.3.1 LPD-SiO_2薄膜阻挡层湿法单面制绒直观效果 | 第50-51页 |
| 4.3.2 单绒面Si片的FE-SEM表征 | 第51-53页 |
| 4.3.3 湿法单面制绒Si片的反射率与膜厚损失测试 | 第53-56页 |
| 4.3.4 制绒过程硅材厚度损失测试 | 第56-57页 |
| 4.4 小结与展望 | 第57-58页 |
| 第五章 LPD湿法单面制绒的电池制造测试 | 第58-69页 |
| 5.1 前言 | 第58页 |
| 5.2 LPD湿法单绒面单晶硅太阳能电池的制造流程 | 第58-62页 |
| 5.2.1 实验试剂 | 第58页 |
| 5.2.2 H_2SiF_6前驱体溶液的配制 | 第58-59页 |
| 5.2.3 大片Si表面预处理 | 第59-60页 |
| 5.2.4 大片Si表面LPD-SiO_2薄膜的制备 | 第60-61页 |
| 5.2.5 大片Si前表面LPD-SiO_2薄膜的去除 | 第61-62页 |
| 5.2.6 电池的制造与测试 | 第62页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第62-65页 |
| 5.3.1 大片LPD-SiO_2薄膜沉积效果 | 第62-64页 |
| 5.3.2 膜层保护效果与电池测试结果 | 第64-65页 |
| 5.4 小结与展望 | 第65-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
