基于智能窗的二氧化钒薄膜制备与性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 二氧化钒的基本性质与应用领域 | 第9-13页 |
| 1.2 基于智能窗的VO_2薄膜研究进展 | 第13-15页 |
| 1.3 本论文主要研究内容 | 第15-17页 |
| 2 二氧化钒薄膜的制备与掺杂 | 第17-23页 |
| 2.1 二氧化钒薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
| 2.2 二氧化钒的掺杂对其影响 | 第19-23页 |
| 3 磁控溅射法制备VO_2薄膜的实验研究 | 第23-38页 |
| 3.1 直流磁控溅射法制备VO_2薄膜 | 第23-24页 |
| 3.2 实验材料和设备 | 第24-26页 |
| 3.3 实验步骤 | 第26-28页 |
| 3.4 实验环境与数据 | 第28-32页 |
| 3.5 二氧化钒薄膜的性能表征 | 第32-37页 |
| 3.6 本章小结 | 第37-38页 |
| 4 二氧化钒薄膜的掺杂研究 | 第38-45页 |
| 4.1 二氧化钒薄膜制备的掺杂方法 | 第38-39页 |
| 4.2 各离子掺杂对VO_2薄膜相变温度的影响 | 第39-40页 |
| 4.3 掺钨VO_2薄膜的制备与性能 | 第40-43页 |
| 4.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 5 总结与展望 | 第45-47页 |
| 5.1 总结 | 第45-46页 |
| 5.2 展望 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |