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g-C3N4纳米片和NiS/g-C3N4的制备及光催化产氢性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第11-35页
    1.1 半导体光催化及其应用第11-13页
        1.1.1 半导体光催化原理第11-12页
        1.1.2 半导体光催化的应用第12-13页
    1.2 半导体光催化产氢第13-15页
        1.2.1 半导体光催化产氢原理第13页
        1.2.2 半导体材料对光催化产氢的影响第13-15页
        1.2.3 环境因素对光催化产氢的影响第15页
    1.3 提高光催化剂产氢活性的有效方法第15-20页
        1.3.1 元素掺杂第16页
        1.3.2 形貌控制第16-17页
        1.3.3 染料敏化第17-18页
        1.3.4 半导体复合第18-19页
        1.3.5 金属沉积第19-20页
    1.4 g-C_3N_4及光催化性能研究第20-25页
        1.4.1 g-C_3N_4的结构第20-21页
        1.4.2 g-C_3N_4的制备和应用第21-25页
            1.4.2.1 g-C_3N_4形貌改性第21-23页
            1.4.2.2 g-C_3N_4的掺杂改性第23-24页
            1.4.2.3 g-C_3N_4复合半导体材料第24-25页
    1.5 非贵金属共催化剂研究第25-26页
    1.6 论文的选题意义及研究内容第26-28页
        1.6.1 选题意义第26-27页
        1.6.2 研究内容第27-28页
    参考文献第28-35页
第二章 实验部分第35-39页
    2.1 化学试剂和仪器第35页
        2.1.1 化学试剂第35页
        2.1.2 实验仪器第35页
    2.2 分析表征手段第35-36页
    2.3 光催化活性评价第36-38页
        2.3.1 光催化反应装置第36-37页
        2.3.2 光催化实验第37-38页
    2.4 ICP检测NiS/g-C_3N_4中Ni含量第38页
    2.5 光电化学测试第38-39页
第三章 g-C_3N_4纳米片的制备及光催化产氢性能第39-57页
    3.1 引言第39-40页
    3.2 催化剂的制备第40-41页
    3.3 结果与讨论第41-51页
        3.3.1 样品的表征第41-49页
            3.3.1.1 XRD物相分析第41-42页
            3.3.1.2 样品的宏观差别第42页
            3.3.1.3 透射电镜分析第42-45页
            3.3.1.4 氮气吸附-脱附等温线第45页
            3.3.1.5 元素分析第45-46页
            3.3.1.6 FT-IR分析第46-47页
            3.3.1.7 UV-Vis分析第47-48页
            3.3.1.8 Zeta电位表征第48-49页
        3.3.2 光电化学性能评价第49-50页
        3.3.3 可见光光催化产氢活性评价第50-51页
    3.4 外部条件对CNNS-1 光催化活性的影响第51-53页
        3.4.1 煅烧温度第51-52页
        3.4.2 煅烧时间第52页
        3.4.3 牺牲剂浓度第52-53页
        3.4.4 贵金属沉积量第53页
    3.5 CNNS-1 样品的催化循环稳定性第53-54页
    3.6 本章小结第54-55页
    参考文献第55-57页
第四章 NiS/CNNS-1 的制备及光催化产氢性能研究第57-69页
    4.1 引言第57页
    4.2 样品的制备第57-58页
    4.3 结果与讨论第58-65页
        4.3.1 样品的表征第58-64页
            4.3.1.1 XRD分析第58-59页
            4.3.1.2 TEM及EDX分析第59-60页
            4.3.1.3 UV-Vis分析第60-61页
            4.3.1.4 PL分析第61-62页
            4.3.1.5 XPS分析第62-64页
        4.3.2 光电化学性能评价第64页
        4.3.3 样品的可见光光催化活性评价第64-65页
    4.4 g-C_3N_4/1.75wt%NiS的催化循环稳定性第65-66页
    4.5 光催化机理分析第66-67页
    4.6 本章小结第67-68页
    参考文献第68-69页
第五章 结论与展望第69-71页
    5.1 论文主要结论第69-70页
    5.2 展望第70-71页
个人简历第71-72页
致谢第72页

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