大孔间距有序PM模板及有序铝衬底的制备
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 课题的背景以及研究意义 | 第10页 |
| 1.2 纳米压印技术的研究进展 | 第10-13页 |
| 1.3 多孔阳极氧化铝的研究进展 | 第13-14页 |
| 1.4 PAA模板 | 第14-18页 |
| 1.4.1 阳极氧化铝膜的类型 | 第14页 |
| 1.4.2 PAA制备工艺概述 | 第14-16页 |
| 1.4.2.1 两步阳极氧化法 | 第14-15页 |
| 1.4.2.2 预制图案技术 | 第15页 |
| 1.4.2.3 高场阳极氧化 | 第15-16页 |
| 1.4.3 孔径和孔间距可调控的PAA模板的制备 | 第16-17页 |
| 1.4.4 PAA膜在纳米结构材料制备上的应用 | 第17-18页 |
| 1.5 纳米压印工艺研究 | 第18-24页 |
| 1.5.1 纳米压印技术的原理 | 第18-19页 |
| 1.5.2 纳米压印技术的分类 | 第19-22页 |
| 1.5.2.1 热压印 | 第20页 |
| 1.5.2.2 紫外纳米压印 | 第20-21页 |
| 1.5.2.3 软刻蚀技术 | 第21-22页 |
| 1.5.3 纳米压印模具的制备 | 第22-23页 |
| 1.5.4 压印模板材料的特性 | 第23-24页 |
| 1.6 本论文的研究内容 | 第24-25页 |
| 2 传统PAA模板的制备工艺研究 | 第25-30页 |
| 2.1 实验部分 | 第25-26页 |
| 2.1.1 实验试剂和仪器 | 第25页 |
| 2.1.2 铝箔预处理工艺 | 第25-26页 |
| 2.1.3 PAA的制备 | 第26页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第26-29页 |
| 2.3 本章小结 | 第29-30页 |
| 3 高电压下制备大孔间距的PAA模板 | 第30-43页 |
| 3.1 实验部分 | 第30-33页 |
| 3.1.1 实验试剂和仪器 | 第30-31页 |
| 3.1.2 大孔径PAA模板的制备 | 第31-32页 |
| 3.1.3 PAA底部的制备 | 第32-33页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第33-42页 |
| 3.2.1 PAA的阻挡层与氧化电压的关系 | 第33-37页 |
| 3.2.2 PAA的孔间距与氧化电压的关系 | 第37-40页 |
| 3.2.3 铝基底的形貌 | 第40-42页 |
| 3.3 本章小结 | 第42-43页 |
| 4 铝模板复制工艺研究和压印效果 | 第43-61页 |
| 4.1 实验部分 | 第43-52页 |
| 4.1.1 实验试剂与仪器 | 第43-45页 |
| 4.1.2 衬底的制备 | 第45-50页 |
| 4.1.3 有序PAA模板的制备 | 第50-52页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第52-59页 |
| 4.2.1 IPS形貌 | 第52-53页 |
| 4.2.2 PDMS形貌 | 第53-54页 |
| 4.2.3 铝基底和氧化后的形貌 | 第54-59页 |
| 4.3 本章小结 | 第59-61页 |
| 5 结论与展望 | 第61-63页 |
| 5.1 主要结论 | 第61页 |
| 5.2 主要创新点 | 第61-62页 |
| 5.3 工作展望 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-71页 |
| 附录 | 第71页 |
