镀锌层电沉积硅酸盐工艺研究
摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第14-23页 |
1.1 研究背景 | 第14页 |
1.2 镀锌层无铬钝化技术及研究进展 | 第14-20页 |
1.2.1 钼酸盐钝化 | 第15页 |
1.2.2 钛盐钝化 | 第15-16页 |
1.2.3 稀土金属盐钝化 | 第16-17页 |
1.2.4 单宁酸、植酸钝化 | 第17-18页 |
1.2.5 有机硅烷钝化 | 第18页 |
1.2.6 硅酸盐、硅溶胶钝化 | 第18-20页 |
1.3 本课题的研究意义及主要内容 | 第20-22页 |
1.3.1 本课题的研究意义 | 第20-21页 |
1.3.2 主要内容 | 第21-22页 |
技术路线图 | 第22-23页 |
第二章 实验材料仪器及实验方法 | 第23-31页 |
2.1 实验试剂 | 第23页 |
2.2 实验仪器 | 第23-24页 |
2.3 实验材料 | 第24页 |
2.4 实验方法 | 第24-27页 |
2.4.1 镀锌试片的制备 | 第24-25页 |
2.4.2 含硅溶液体系的配制 | 第25页 |
2.4.3 电沉积实验工艺 | 第25-26页 |
2.4.4 三价铬钝化膜的制备 | 第26-27页 |
2.5 硅酸钠溶液模数测定方法 | 第27-29页 |
2.5.1 氧化钠含量的测定 | 第27-28页 |
2.5.2 二氧化硅的测定 | 第28页 |
2.5.3 硅酸钠模数的计算 | 第28-29页 |
2.6 性能测试 | 第29-31页 |
2.6.1 表面形貌及组成 | 第29页 |
2.6.2 电化学测试 | 第29-30页 |
2.6.3 耐蚀性能 | 第30-31页 |
第三章 溶液体系初选 | 第31-46页 |
3.1 硅溶胶溶液 | 第31-34页 |
3.1.1 硅溶胶溶液的稳定性 | 第31-32页 |
3.1.2 硅溶胶溶液中电沉积实验 | 第32-34页 |
3.2 偏硅酸钠溶液 | 第34-41页 |
3.2.1 偏硅酸溶液的稳定性 | 第34-35页 |
3.2.2 偏硅酸钠溶液改性 | 第35-36页 |
3.2.3 偏硅酸溶液体系中电沉积 | 第36-41页 |
3.3 硅酸钠溶液 | 第41-45页 |
3.3.1 硅酸钠溶液的稳定性 | 第41-42页 |
3.3.2 硅酸钠溶液中电沉积实验 | 第42-45页 |
3.4 本章小结 | 第45-46页 |
第四章 硅酸钠电沉积工艺研究 | 第46-62页 |
4.1 阳极极板材料的筛选 | 第46-48页 |
4.2 硅酸钠模数的影响 | 第48-50页 |
4.3 溶液pH值的影响 | 第50-51页 |
4.4 硅酸钠的浓度的影响 | 第51-52页 |
4.5 电压的影响 | 第52-53页 |
4.6 沉积温度的影响 | 第53-54页 |
4.7 沉积时间的影响 | 第54-55页 |
4.8 烘干温度的影响 | 第55-56页 |
4.9 烘干时间的影响 | 第56-57页 |
4.10 氧化剂的影响 | 第57-59页 |
4.10.1 NO_3~-浓度的影响 | 第58页 |
4.10.2 H_2O_2浓度的影响 | 第58-59页 |
4.10.3 小结 | 第59页 |
4.11 电沉积工艺正交实验 | 第59-60页 |
4.12 本章小结 | 第60-62页 |
第五章 膜层组成、性能检测及机理初探 | 第62-71页 |
5.1 硅酸盐膜层表面宏观、微观形态及组成 | 第62-69页 |
5.1.1 膜层外观对比 | 第62-63页 |
5.1.2 膜层元素组分检测及机理初探 | 第63-68页 |
5.1.2.1 SEM、EDS测试结果 | 第63-65页 |
5.1.2.2 XPS测试结果 | 第65-68页 |
5.1.3 成膜机理初探 | 第68-69页 |
5.2 膜层耐蚀性能检测结果及对比分析 | 第69-70页 |
5.2.1 与三价铬钝化膜电化学性能对比 | 第69页 |
5.2.2 盐雾试验结果 | 第69-70页 |
5.3 本章小结 | 第70-71页 |
第六章 结论及展望 | 第71-73页 |
6.1 本文主要成果及结论 | 第71-72页 |
6.2 展望 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
附录:攻读硕士学位期间的主要工作及发表的文章 | 第78页 |