| 中文摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 研究背景综述 | 第11-46页 |
| 1.1 引言 | 第11-13页 |
| 1.2 TiO_2基DMS研究基础 | 第13-42页 |
| 1.2.1 DMS概述 | 第13-14页 |
| 1.2.2 DMS常见的磁性理论模型 | 第14-20页 |
| 1.2.2.1 磁性第二相之影响 | 第14-15页 |
| 1.2.2.2 载流子的调制作用 | 第15-19页 |
| 1.2.2.3 束缚磁极化子(BMP)模型 | 第19页 |
| 1.2.2.4 小结 | 第19-20页 |
| 1.2.3 TiO_2基DMS现阶段的主要问题 | 第20-21页 |
| 1.2.4 TiO_2基DMS材料研究现状 | 第21-42页 |
| 1.2.4.1 金属掺杂TiO_2基DMS | 第21-32页 |
| 1.2.4.2 非金属掺杂TiO_2基DMS | 第32-36页 |
| 1.2.4.3 未掺杂TiO_2本征铁磁性 | 第36-41页 |
| 1.2.4.4 小结 | 第41-42页 |
| 1.3 选题意义 | 第42-46页 |
| 1.3.1 研究目的 | 第42页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第42-43页 |
| 1.3.3 技术路线 | 第43-45页 |
| 1.3.4 小结 | 第45-46页 |
| 第二章 TiO_2的基本性质 | 第46-51页 |
| 2.1 TiO_2的基本性质 | 第46-51页 |
| 2.1.1 TiO_2的晶体结构 | 第46-47页 |
| 2.1.2 TiO_2的能带结构 | 第47-51页 |
| 第三章 实验装置测量原理 | 第51-82页 |
| 3.1 制样装置原理 | 第51-54页 |
| 3.1.1 离子注入机(Ion implantator) | 第51-53页 |
| 3.1.2 中子发生器(D-D neutron generator) | 第53-54页 |
| 3.2 实验装置原理 | 第54-82页 |
| 3.2.1 超导量子干涉仪(SQUID) | 第54页 |
| 3.2.2 交变梯度磁强计(AGFM) | 第54-55页 |
| 3.2.3 正电子的实验原理 | 第55-60页 |
| 3.2.3.1 正电子寿命(positron annihilation lifetime) | 第55-58页 |
| 3.2.3.2 多普勒展宽谱(Doppler broardening energy spectra) | 第58-60页 |
| 3.2.3.3 小结 | 第60页 |
| 3.2.4 X射线衍射(X-ray diffraction, XRD) | 第60-62页 |
| 3.2.5 X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy) | 第62-64页 |
| 3.2.6 透射电镜(TEM) | 第64-67页 |
| 3.2.7 拉曼光谱(Raman spectra) | 第67-69页 |
| 3.2.8 扩展边X射线吸收精细结构谱(EXAFS) | 第69-80页 |
| 3.2.8.1 EXAFS简介 | 第69页 |
| 3.2.8.2 吸收边的概念 | 第69-71页 |
| 3.2.8.3 EXAFS的理论表述 | 第71-72页 |
| 3.2.8.4 EXAFS实验以及数据处理 | 第72-80页 |
| 3.2.9 紫外—可见光吸收谱(UV-Vis) | 第80-82页 |
| 第四章 Cu、Ar注入对TiO_2结构和磁学性质的影响 | 第82-100页 |
| 4.1 引言 | 第82-83页 |
| 4.2 实验 | 第83-84页 |
| 4.2.1 样品制备 | 第83页 |
| 4.2.2 表征方法 | 第83-84页 |
| 4.3 实验结果及讨论 | 第84-99页 |
| 4.3.1 XPS元素分析 | 第84页 |
| 4.3.2 透射电镜TEM | 第84-89页 |
| 4.3.3 正电子多普勒展宽谱 | 第89-90页 |
| 4.3.4 Raman光谱 | 第90-92页 |
| 4.3.5 XRD谱 | 第92-93页 |
| 4.3.6 EXAFS谱 | 第93-95页 |
| 4.3.7 UV-Vis光谱 | 第95-96页 |
| 4.3.8 M-H曲线 | 第96-99页 |
| 4.4 小结 | 第99-100页 |
| 第五章 氘-氘中子辐照对TiO_2结构及磁学性能影响 | 第100-108页 |
| 5.1 引言 | 第100页 |
| 5.2 样品制备及表征方法 | 第100-101页 |
| 5.3 实验结果及讨论 | 第101-107页 |
| 5.3.1 XRD结果 | 第101-102页 |
| 5.3.2 正电子寿命 | 第102-104页 |
| 5.3.3 XPS谱 | 第104-105页 |
| 5.3.4 UV-Vis谱 | 第105-106页 |
| 5.3.5 M-H曲线 | 第106-107页 |
| 5.4 小结 | 第107-108页 |
| 第六章 结论 | 第108-109页 |
| 参考文献 | 第109-117页 |
| 在学期间的研究成果 | 第117-119页 |
| 致谢 | 第119页 |
