| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第16-32页 |
| 1.1 吡啶碱的性质与市场应用 | 第16-19页 |
| 1.1.1 吡啶碱的市场与应用 | 第16-18页 |
| 1.1.2 吡啶碱的物理性质 | 第18-19页 |
| 1.2 吡啶合成工艺 | 第19-21页 |
| 1.2.1 分离法 | 第19-20页 |
| 1.2.2 催化法 | 第20-21页 |
| 1.3 沸石的择形催化与醛-氨缩合机理 | 第21-25页 |
| 1.3.1 分子筛择形催化理论与进展 | 第21-23页 |
| 1.3.2 醛-氨缩合反应机理 | 第23-25页 |
| 1.4 ZSM-5沸石分子筛的改性方法 | 第25-28页 |
| 1.4.1 酸/碱处理改性 | 第26页 |
| 1.4.2 金属离子改性 | 第26-27页 |
| 1.4.3 硅烷化改性 | 第27-28页 |
| 1.5 吡啶的分离与流程模拟 | 第28-30页 |
| 1.6 课题研究内容 | 第30-32页 |
| 第二章 实验部分 | 第32-42页 |
| 2.1 实验药品与实验仪器 | 第32-33页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第32-33页 |
| 2.1.2 实验主要仪器设备 | 第33页 |
| 2.2 催化剂的表征 | 第33-34页 |
| 2.2.1 N_2低温吸附 | 第33页 |
| 2.2.2 SEM扫描电镜 | 第33-34页 |
| 2.2.3 X射线衍射 | 第34页 |
| 2.2.4 FT-IR红外光谱 | 第34页 |
| 2.2.5 程序升温NH_3吸-脱附 | 第34页 |
| 2.2.6 X射线光电子能谱 | 第34页 |
| 2.3 催化剂的改性方法 | 第34-36页 |
| 2.3.1 硅烷化改性处理 | 第34-35页 |
| 2.3.2 金属/硅烷化改性处理 | 第35-36页 |
| 2.4 催化剂性能评价 | 第36-42页 |
| 2.4.1 校准实验 | 第36-37页 |
| 2.4.2 反应评价装置 | 第37-38页 |
| 2.4.3 色谱分析条件 | 第38-40页 |
| 2.4.4 产物相关指标计算方法 | 第40-42页 |
| 第三章 醛-氨缩合反应工艺条件的探究 | 第42-52页 |
| 3.1 不同分子筛对催化反应的影响 | 第42-45页 |
| 3.1.1 催化剂的筛选 | 第42-43页 |
| 3.1.2 颗粒尺寸对催化性能的影响 | 第43-44页 |
| 3.1.3 硅铝比的对催化反应的影响 | 第44-45页 |
| 3.2 反应条件对催化反应的影响 | 第45-50页 |
| 3.2.1 反应温度对催化反应的影响 | 第45-47页 |
| 3.2.2 醛/醛比对催化反应的影响 | 第47-48页 |
| 3.2.3 醛/氨比对催化反应的影响 | 第48页 |
| 3.2.4 反应时间对催化反应的影响 | 第48-49页 |
| 3.2.5 气时空速对催化反应的影响 | 第49-50页 |
| 3.3 本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 改性HZSM-5催化醛-氨缩合反应性能研究 | 第52-70页 |
| 4.1 沉积条件对HZSM-5催化性能的影响 | 第52-55页 |
| 4.1.1 不同硅烷化试剂的影响 | 第52-53页 |
| 4.1.2 硅烷化试剂沉积百分含量的影响 | 第53-54页 |
| 4.1.3 硅烷化试剂沉积时间的影响 | 第54-55页 |
| 4.1.4 硅烷化试剂沉积次数的影响 | 第55页 |
| 4.2 硅烷化改性HZSM-5催化剂表征分析 | 第55-62页 |
| 4.2.1 XRD表征分析 | 第55-57页 |
| 4.2.2 SEM表征分析 | 第57页 |
| 4.2.3 FT-IR表征分析 | 第57-59页 |
| 4.2.4 NH_3-TPD表征分析 | 第59-60页 |
| 4.2.5 BET表征分析 | 第60-62页 |
| 4.3 Zn/硅烷化改性HZSM-5催化剂性能研究及表征分析 | 第62-68页 |
| 4.3.1 Zn/硅烷化改性对催化性能的影响 | 第62-63页 |
| 4.3.2 Zn/硅烷化改性HZSM-5催化剂表征分析 | 第63-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 吡啶合成的流程模拟与工艺设计 | 第70-86页 |
| 5.1 反应器的模拟 | 第70-73页 |
| 5.1.1 模拟流程 | 第70-71页 |
| 5.1.2 组分信息与设备参数 | 第71-72页 |
| 5.1.3 模拟结果与讨论 | 第72-73页 |
| 5.2 萃取塔的模拟 | 第73-76页 |
| 5.2.1 模拟流程 | 第73-74页 |
| 5.2.2 组分信息与设备参数 | 第74-75页 |
| 5.2.3 模拟结果与讨论 | 第75-76页 |
| 5.3 脱苯塔的模拟 | 第76-80页 |
| 5.3.1 模拟流程 | 第77页 |
| 5.3.2 组分信息与设备参数 | 第77-79页 |
| 5.3.3 模拟结果与讨论 | 第79-80页 |
| 5.4 吡啶分离塔的模拟 | 第80-83页 |
| 5.4.1 模拟流程 | 第80-81页 |
| 5.4.2 组分信息与设备参数 | 第81-82页 |
| 5.4.3 模拟结果与讨论 | 第82-83页 |
| 5.5 全系统设备模型选择与热负荷计算 | 第83-84页 |
| 5.5.1 设备模型 | 第83页 |
| 5.5.2 热负荷计算 | 第83-84页 |
| 5.6 本章小结 | 第84-86页 |
| 第六章 结论 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-96页 |
| 致谢 | 第96-98页 |
| 作者与导师简介 | 第98-99页 |
| 北京化工大学专业学位硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第99-100页 |
