二维有序微结构的氧化钒薄膜的实验与理论研究
致谢 | 第5-6页 |
摘要 | 第6-7页 |
ABSTRACT | 第7页 |
1 绪论 | 第10-19页 |
1.1 研究背景和研究现状 | 第10-15页 |
1.1.1 纳米材料 | 第10-11页 |
1.1.2 氧化钒性能简介及应用 | 第11-14页 |
1.1.3 氧化钒材料的研究进展 | 第14-15页 |
1.2 实验方法简介 | 第15-18页 |
1.2.1 纳米球刻蚀技术简介 | 第15-17页 |
1.2.2 磁控溅射技术简介 | 第17-18页 |
1.3 本文的选题依据和主要工作 | 第18-19页 |
2 有序微结构氧化钒亚微米材料的制备 | 第19-24页 |
2.1 掩膜板的制备 | 第19-21页 |
2.2 氧化钒薄膜的制备 | 第21-24页 |
2.2.1 实验设备及其参数 | 第21-22页 |
2.2.2 实验步骤 | 第22-24页 |
3 样品的光学性质和微观结构 | 第24-38页 |
3.1 光学透过率的测试 | 第24-34页 |
3.2 SEM表征 | 第34-37页 |
小结 | 第37-38页 |
4 离散偶极子近似(DDA)模拟 | 第38-47页 |
4.1 离散偶极子近似(DDA)简介 | 第38-39页 |
4.2 DDA模拟简要使用步骤 | 第39-41页 |
4.3 DDA模拟结果及分析 | 第41-46页 |
小结 | 第46-47页 |
5 结论 | 第47-48页 |
参考文献 | 第48-50页 |
附录A | 第50-52页 |
作者简历及攻读硕士/博士学位期间取得的研究成果 | 第52-54页 |
学位论文数据集 | 第54页 |