| 缩略语表 | 第1-15页 |
| 摘要 | 第15-18页 |
| Abstract | 第18-22页 |
| 第一章 绪论 | 第22-40页 |
| ·前言 | 第22-23页 |
| ·纳米多孔碳的研究现状 | 第23-37页 |
| ·纳米多孔碳常规制备方法研究现状 | 第23-27页 |
| ·CDC法研究现状 | 第27-37页 |
| ·课题的提出及研究内容 | 第37-40页 |
| ·课题提出 | 第37-38页 |
| ·研究内容 | 第38-40页 |
| 第二章 实验与研究方法 | 第40-46页 |
| ·实验用原料 | 第40-41页 |
| ·陶瓷先驱体 | 第40页 |
| ·其它原料 | 第40-41页 |
| ·实验过程 | 第41-43页 |
| ·聚硅氧烷裂解产物的制备 | 第41-42页 |
| ·纳米多孔碳的制备 | 第42页 |
| ·电极材料的制备 | 第42-43页 |
| ·孔结构表征 | 第43页 |
| ·物相组成与微观组织结构表征 | 第43-44页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第43页 |
| ·红外(IR)分析 | 第43页 |
| ·热分析 | 第43页 |
| ·能谱(EDX)分析 | 第43-44页 |
| ·拉曼(Raman)分析 | 第44页 |
| ·X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第44页 |
| ·元素分析（EA） | 第44页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第44页 |
| ·透射电镜(TEM)分析 | 第44页 |
| ·核磁共振(NMR)分析 | 第44页 |
| ·电化学性能表征 | 第44-45页 |
| ·CO_2吸附存储性能表征 | 第45-46页 |
| 第三章 P-SiC制备纳米多孔碳研究 | 第46-80页 |
| ·碳前驱体P-SiC的组成及结构研究 | 第46-53页 |
| ·P-SiC组成研究 | 第46-48页 |
| ·P-SiC微观结构研究 | 第48-51页 |
| ·P-SiC孔隙结构研究 | 第51-53页 |
| ·P-SiC组成及结构随刻蚀温度的演变行为 | 第53-65页 |
| ·P-SiC氯化刻蚀反应热力学研究 | 第53-55页 |
| ·P-SiC组成随刻蚀温度的演变行为 | 第55-59页 |
| ·P-SiC微观结构随刻蚀温度的演变行为 | 第59-63页 |
| ·P-SiC孔隙结构随刻蚀温度的演变行为 | 第63-65页 |
| ·P-SiC组成及结构随刻蚀时间的演变行为 | 第65-69页 |
| ·P-SiC组成随刻蚀时间的演变行为 | 第65-66页 |
| ·P-SiC孔隙结构随刻蚀时间的演变行为 | 第66-69页 |
| ·P-SiC氯化刻蚀反应机理分析 | 第69-72页 |
| ·NH_3处理对P-SiC-NPC组成及结构的影响 | 第72-78页 |
| ·NH_3处理对P-SiC-NPC组成的影响 | 第72-74页 |
| ·NH_3处理对P-SiC-NPC微观结构的影响 | 第74-77页 |
| ·NH_3处理对P-SiC-NPC孔隙结构的影响 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-80页 |
| 第四章 P-SiOC制备纳米多孔碳研究 | 第80-112页 |
| ·P-SiOC的组成及结构研究 | 第80-87页 |
| ·P-SiOC组成研究 | 第80-82页 |
| ·P-SiOC微观结构研究 | 第82-85页 |
| ·P-SiOC孔隙结构研究 | 第85-87页 |
| ·P-SiOC组成及结构随刻蚀温度的演变行为 | 第87-97页 |
| ·P-SiOC组成随刻蚀温度的演变行为 | 第87-92页 |
| ·P-SiOC微观结构随刻蚀温度的演变行为 | 第92-95页 |
| ·P-SiOC孔隙结构随刻蚀温度的演变行为 | 第95-97页 |
| ·P-SiOC组成及结构随刻蚀时间的演变行为 | 第97-101页 |
| ·P-SiOC组成随刻蚀时间的演变行为 | 第97-99页 |
| ·P-SiOC孔隙结构随刻蚀时间的演变行为 | 第99-101页 |
| ·P-SiOC氯化刻蚀反应机理分析 | 第101-103页 |
| ·NH_3处理对P-SiOC-NPC组成及结构的影响 | 第103-110页 |
| ·NH_3处理对P-SiOC-NPC组成的影响 | 第104-106页 |
| ·NH_3处理对P-SiOC-NPC微观结构的影响 | 第106-108页 |
| ·NH_3处理对P-SiOC-NPC孔隙结构的影响 | 第108-110页 |
| ·本章小结 | 第110-112页 |
| 第五章 P-Si OCH制备纳米多孔碳研究 | 第112-139页 |
| ·P-SiOCH的组成及结构研究 | 第112-117页 |
| ·P-SiOCH组成研究 | 第112-114页 |
| ·P-SiOCH微观结构研究 | 第114-115页 |
| ·P-SiOCH孔隙结构研究 | 第115-117页 |
| ·P-SiOCH组成及结构随刻蚀温度演变行为 | 第117-123页 |
| ·P-SiOCH组成随刻蚀温度的演变行为 | 第117-120页 |
| ·P-SiOCH微观结构随刻蚀温度的演变行为 | 第120-122页 |
| ·P-SiOCH孔隙结构随刻蚀温度的演变行为 | 第122-123页 |
| ·P-SiOCH组成及结构随刻蚀时间的演变行为 | 第123-127页 |
| ·P-SiOCH组成随刻蚀时间的演变行为 | 第124-126页 |
| ·P-SiOCH孔隙结构随刻蚀时间的演变行为 | 第126-127页 |
| ·P-SiOCH氯化刻蚀反应机理分析 | 第127-130页 |
| ·NH_3处理对P-SiOCH-NPC组成及结构的影响 | 第130-138页 |
| ·NH_3处理对P-SiOCH-NPC组成的影响 | 第130-132页 |
| ·NH_3处理对P-SiOCH-NPC微观结构的影响 | 第132-136页 |
| ·NH_3处理对P-SiOCH-NPC孔隙结构的影响 | 第136-138页 |
| ·本章小结 | 第138-139页 |
| 第六章 纳米多孔碳的结构优化研究 | 第139-157页 |
| ·CO_2活化处理对NPC结构的影响 | 第139-147页 |
| ·CO_2活化工艺的选择 | 第139-140页 |
| ·活化温度对NPC结构的影响 | 第140-145页 |
| ·活化时间对NPC结构的影响 | 第145-147页 |
| ·Ar中高温热处理对NPC结构的影响研究 | 第147-152页 |
| ·热处理温度对NPC结构的影响 | 第147-151页 |
| ·热处理时间对NPC结构的影响 | 第151-152页 |
| ·三种裂解产物及其刻蚀行为的比较 | 第152-156页 |
| ·三种裂解产物组成和结构比较 | 第152-153页 |
| ·三种裂解产物刻蚀行为比较 | 第153-154页 |
| ·三种纳米多孔碳组成和结构比较 | 第154-156页 |
| ·本章小结 | 第156-157页 |
| 第七章 纳米多孔碳的应用探索研究 | 第157-181页 |
| ·电极应用探索研究 | 第157-168页 |
| ·P-SiOC-NPC的电极应用探索研究 | 第158-163页 |
| ·P-SiC-NPC的电极应用探索研究 | 第163-168页 |
| ·CO_2吸附存储应用探索研究 | 第168-180页 |
| ·吸附条件对CO_2吸附性能的影响 | 第169-174页 |
| ·裂解温度对CO_2吸附性能的影响 | 第174-175页 |
| ·刻蚀温度对CO_2吸附性能的影响 | 第175-177页 |
| ·活化处理对CO_2吸附性能的影响 | 第177-180页 |
| ·本章小结 | 第180-181页 |
| 第八章 结论 | 第181-184页 |
| 参考文献 | 第184-195页 |
| 致谢 | 第195-196页 |
| 博士期间取得的学术成果 | 第196-197页 |
