中文摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
1 绪论 | 第10-21页 |
·透明导电薄膜 | 第10-15页 |
·透明导电氧化物薄膜 | 第10-11页 |
·金属夹层TCO复合薄膜 | 第11-12页 |
·聚酰亚胺(PI)柔性基底石墨烯复合薄膜 | 第12-15页 |
·铜铟铝硒(CIAS)吸收薄膜 | 第15-16页 |
·薄膜的生长及制备方法 | 第16-19页 |
·薄膜的生长 | 第16-17页 |
·薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
·本课题的研究意义及内容 | 第19-21页 |
2 实验试样的制备方法及表征手段 | 第21-32页 |
·制备方法 | 第21-27页 |
·实验材料 | 第21页 |
·磁控溅射设备原理及试样制备方法 | 第21-25页 |
·墨水法和刮刀涂布法实验仪器及制备方法 | 第25-27页 |
·实验表征手段及原理 | 第27-32页 |
·台阶仪 | 第27-28页 |
·XRD衍射仪 | 第28-29页 |
·原子力显微镜 | 第29页 |
·扫描电子显微镜 | 第29-30页 |
·霍尔效应仪 | 第30-31页 |
·紫外-可见分光光度计 | 第31-32页 |
3 不同电源对磁控溅射内部等离子体的影响 | 第32-39页 |
·实验原理与目的 | 第32页 |
·实验方法 | 第32-33页 |
·实验结果与分析 | 第33-38页 |
·小结 | 第38-39页 |
4 柔性基底/石墨烯/TCO复合薄膜性能的探究 | 第39-52页 |
·实验原理与目的 | 第39页 |
·实验方法 | 第39-40页 |
·结果与分析 | 第40-51页 |
·ZnO,AZO薄膜的制备及表征 | 第40-45页 |
·PI/石墨烯/ZnO、PI/石墨烯/AZO | 第45-51页 |
·小结 | 第51-52页 |
5 PI/石墨烯/Ag/ZnO复合薄膜的制备及性能研究 | 第52-63页 |
·实验原理与目的 | 第52页 |
·实验方法及工艺改进 | 第52-53页 |
·结论与分析 | 第53-62页 |
·石墨烯及不同Ag层厚度Ag、石墨烯/Ag复合薄膜 | 第53-59页 |
·PI/石墨烯/Ag/Zn O复合薄膜的制备 | 第59-62页 |
·小结 | 第62-63页 |
6 墨水和刮刀涂布试制CIAS薄膜 | 第63-72页 |
·实验原理及目的 | 第63页 |
·实验方法 | 第63-67页 |
·结果与分析 | 第67-71页 |
·试样XRD分析 | 第67-69页 |
·试样的透光图及禁带宽度 | 第69-70页 |
·试样形貌及EDS能谱结果分析 | 第70-71页 |
·小结 | 第71-72页 |
7 结论与展望 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
攻读硕士学位期间发表的论文情况 | 第77-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
作者简介 | 第79-80页 |