| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-27页 |
| ·薄膜太阳能电池 | 第13-14页 |
| ·透明导电氧化物薄膜 | 第14-16页 |
| ·氧化铟锡（ITO）薄膜及其局限性 | 第14-15页 |
| ·氧化锡锑（ATO）薄膜及其发展前景 | 第15-16页 |
| ·ATO 薄膜的研究进展 | 第16-22页 |
| ·ATO 薄膜的制备方法 | 第16-20页 |
| ·磁控溅射制备 ATO 薄膜存在的问题 | 第20-22页 |
| ·ATO 陶瓷靶材致密化的研究进展 | 第22-24页 |
| ·添加烧结助剂提高致密度 | 第22-23页 |
| ·采用新型烧结技术提高致密度 | 第23-24页 |
| ·原料粉体性能对致密化的影响 | 第24页 |
| ·论文工作的提出、研究目的和意义 | 第24-25页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第2章 ATO 纳米粉体的非水基溶胶凝胶制备及其组成结构表征 | 第27-38页 |
| ·引言 | 第27-28页 |
| ·实验与测试 | 第28-31页 |
| ·实验原料 | 第28-29页 |
| ·实验设计与工艺流程 | 第29-30页 |
| ·分析测试 | 第30-31页 |
| ·ATO 纳米粉体的非水基溶胶凝胶制备及其组成结构表征 | 第31-36页 |
| ·络合剂含量对 ATO 纳米粉体的组成及结构的影响 | 第31-34页 |
| ·锑掺杂含量对 ATO 纳米粉体的组成及结构的影响 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 第3章 ATO 纳米陶瓷的电场活化烧结制备、致密化机理及导电性能研究 | 第38-71页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·实验与测试 | 第38-41页 |
| ·实验原料 | 第38-39页 |
| ·实验设计与工艺流程 | 第39页 |
| ·分析测试 | 第39-41页 |
| ·ATO 纳米陶瓷的电场活化烧结制备及其致密化 | 第41-54页 |
| ·烧结温度对 ATO 纳米陶瓷显微结构及致密度的影响 | 第41-45页 |
| ·升温速率对 ATO 纳米陶瓷显微结构及致密度的影响 | 第45-47页 |
| ·烧结压力对 ATO 纳米陶瓷显微结构及致密度的影响 | 第47-49页 |
| ·锑掺杂含量对 ATO 纳米陶瓷显微结构及致密度的影响 | 第49-51页 |
| ·样品尺寸对 ATO 纳米陶瓷显微结构及致密度的影响 | 第51-54页 |
| ·ATO 纳米导电陶瓷的电场活化烧结致密化机理 | 第54-66页 |
| ·电场活化烧结过程中 ATO 纳米陶瓷的结构演变 | 第54-57页 |
| ·电场活化烧结过程中电场分布的变化 | 第57-61页 |
| ·电场活化烧结过程中热场分布的变化 | 第61-63页 |
| ·ATO 纳米导电陶瓷的电场活化烧结致密化机理 | 第63-66页 |
| ·高致密 ATO 纳米陶瓷的导电性能研究 | 第66-69页 |
| ·锑掺杂含量对 ATO 陶瓷导电性能的影响 | 第66-67页 |
| ·晶粒尺寸对 ATO 陶瓷导电性能的影响 | 第67-68页 |
| ·高致密 ATO 纳米陶瓷导电机理的研究 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第4章 ATO 薄膜的磁控溅射沉积及其导电、光学性能研究 | 第71-121页 |
| ·引言 | 第71页 |
| ·实验与测试 | 第71-77页 |
| ·实验原料 | 第71-73页 |
| ·实验设计与工艺流程 | 第73-75页 |
| ·分析测试 | 第75-77页 |
| ·靶材致密度对 ATO 薄膜组成结构及性能的影响 | 第77-87页 |
| ·不同致密度 ATO 靶材溅射前后组成结构对比 | 第77-81页 |
| ·靶材致密度对 ATO 薄膜化学组成与化学结构的影响 | 第81-84页 |
| ·靶材致密度对 ATO 薄膜导电性能的影响 | 第84-85页 |
| ·靶材致密度对 ATO 薄膜光学性能的影响 | 第85-87页 |
| ·靶材组成对 ATO 薄膜组成结构及性能的影响 | 第87-88页 |
| ·退火处理对 ATO 薄膜组成结构及性能的影响 | 第88-97页 |
| ·退火处理对 ATO 薄膜物相组成与显微形貌的影响 | 第88-91页 |
| ·退火处理对 ATO 薄膜化学组成与化学结构的影响 | 第91-95页 |
| ·退火处理对 ATO 薄膜导电性能的影响 | 第95-96页 |
| ·退火处理对 ATO 薄膜光学性能的影响 | 第96-97页 |
| ·氧气分压对 ATO 薄膜组成结构及性能的影响 | 第97-105页 |
| ·氧气分压对 ATO 薄膜物相组成与显微形貌的影响 | 第97-101页 |
| ·氧气分压对 ATO 薄膜化学组成与化学结构的影响 | 第101-102页 |
| ·氧气分压对 ATO 薄膜导电性能的影响 | 第102-104页 |
| ·氧气分压对 ATO 薄膜光学性能的影响 | 第104-105页 |
| ·沉积温度对 ATO 薄膜组成结构及性能的影响 | 第105-112页 |
| ·沉积温度对 ATO 薄膜物相组成与显微形貌的影响 | 第105-108页 |
| ·沉积温度对 ATO 薄膜化学组成与化学结构的影响 | 第108-109页 |
| ·沉积温度对 ATO 薄膜导电性能的影响 | 第109-111页 |
| ·沉积温度对 ATO 薄膜光学性能的影响 | 第111-112页 |
| ·溅射功率对 ATO 薄膜组成结构及性能的影响 | 第112-118页 |
| ·溅射功率对 ATO 薄膜物相组成与显微形貌的影响 | 第112-115页 |
| ·溅射功率对 ATO 薄膜化学组成与化学结构的影响 | 第115-116页 |
| ·溅射功率对 ATO 薄膜导电性能的影响 | 第116-117页 |
| ·溅射功率对 ATO 薄膜光学性能的影响 | 第117-118页 |
| ·ATO 薄膜的性能评价 | 第118-119页 |
| ·本章小结 | 第119-121页 |
| 第5章 结论 | 第121-123页 |
| 参考文献 | 第123-131页 |
| 攻读博士期间发表论文及申请专利情况 | 第131-133页 |
| 致谢 | 第133页 |
