| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-12页 |
| 符号说明 | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-32页 |
| ·金属有机化学气相沉积原理 | 第14-15页 |
| ·金属有机化学气相沉积系统 | 第15-16页 |
| ·气体输运过程 | 第16-19页 |
| ·水平式反应器 | 第17-18页 |
| ·垂直式反应器 | 第18-19页 |
| ·氮化镓生长的化学反应研究现状 | 第19-28页 |
| ·加合物路径 | 第20-21页 |
| ·热解路径 | 第21-22页 |
| ·平行反应路径 | 第22-23页 |
| ·纳米粒子形核机理 | 第23-26页 |
| ·表面化学反应 | 第26-27页 |
| ·刻蚀反应 | 第27-28页 |
| ·氮化镓MOCVD生长过程中存在的问题 | 第28-29页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第29-32页 |
| 第二章 氮化镓MOCVD化学反应动力学分析 | 第32-46页 |
| ·化学反应动力学原理 | 第32-36页 |
| ·气相化学反应动力学分类 | 第32页 |
| ·气相化学反应速率方程 | 第32-33页 |
| ·质量作用定理和阿伦尼乌斯定理 | 第33-34页 |
| ·表面反应动力学 | 第34-36页 |
| ·氮化镓化学反应动力学分析 | 第36-38页 |
| ·气相反应动力学 | 第36-37页 |
| ·表面反应动力学 | 第37-38页 |
| ·化学反应路径分析 | 第38-40页 |
| ·不同气体混合方式和加热条件下的气相反应路径 | 第40-43页 |
| ·本文研究的化学反应动力学模型 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 第三章 化学反应动力学数学模型及数值模拟方法 | 第46-62页 |
| ·化学反应动力学数学模型 | 第46-48页 |
| ·化学反应动力学模拟的基本假设 | 第48-49页 |
| ·控制方程和边界条件 | 第49-51页 |
| ·数值模拟方法 | 第51-52页 |
| ·控制方程的离散 | 第52-53页 |
| ·SIMPLE算法 | 第53-56页 |
| ·FLUENT软件简介 | 第56-57页 |
| ·FLUENT中的组分输运和化学反应模拟 | 第57-61页 |
| ·ICEM-CFD网格划分 | 第57-59页 |
| ·FLUENT数值模拟化学反应的方法和步骤 | 第59-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 第四章 化学反应路径的数值模拟与分析 | 第62-74页 |
| ·高速转盘式反应器模拟 | 第62-65页 |
| ·水平式反应器模拟 | 第65-68页 |
| ·分隔进口水平式反应器模拟 | 第68-70页 |
| ·垂直喷淋式反应器模拟 | 第70-73页 |
| ·小结 | 第73-74页 |
| 第五章 MOCVD反应器中热泳力对浓度分布及化学反应路径的影响分析 | 第74-88页 |
| ·热泳力和热泳速度的推导 | 第75-80页 |
| ·水平式反应器 | 第75-79页 |
| ·垂直式反应器 | 第79-80页 |
| ·数值模拟及分析 | 第80-86页 |
| ·水平式反应器 | 第80-84页 |
| ·垂直式反应器 | 第84-86页 |
| ·小结 | 第86-88页 |
| 第六章 操作参数和几何参数对化学反应路径的影响分析及数值模拟 | 第88-100页 |
| ·进口流量对反应路径的影响 | 第88-91页 |
| ·高速转盘式反应器 | 第88-89页 |
| ·垂直喷淋式反应器 | 第89-90页 |
| ·水平式反应器 | 第90-91页 |
| ·反应腔体内的压强对反应路径的影响 | 第91-94页 |
| ·高速转盘式反应器 | 第91-93页 |
| ·垂直喷淋式反应器 | 第93页 |
| ·水平式反应器 | 第93-94页 |
| ·反应器高度对反应路径的影响 | 第94-99页 |
| ·CCS反应器三维模型转化为二维模型 | 第94-98页 |
| ·水平式反应器的高度的影响 | 第98-99页 |
| ·小结 | 第99-100页 |
| 第七章 总结与展望 | 第100-104页 |
| ·总结 | 第100-101页 |
| ·工作展望 | 第101-104页 |
| 致谢 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-112页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第112页 |