| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-28页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·非晶碳薄膜的结构 | 第10-12页 |
| ·非晶碳薄膜的制备方法 | 第12-17页 |
| ·磁控溅射(Magnetron Sputtering) | 第13-15页 |
| ·离子束沉积(Ion Beam Deposition,IBD) | 第15页 |
| ·脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD) | 第15-16页 |
| ·阴极电弧沉积(Cathodic Vacuum Arc,CVA) | 第16-17页 |
| ·非晶碳薄膜的性能及应用 | 第17-19页 |
| ·非晶碳薄膜的机械性能及应用 | 第17-18页 |
| ·非晶碳薄膜的电学性能及应用 | 第18页 |
| ·非晶碳薄膜的光学性能及应用 | 第18页 |
| ·非晶碳薄膜的生物性能及应用 | 第18-19页 |
| ·非晶碳薄膜的缺点及改性 | 第19-25页 |
| ·非晶碳薄膜的缺点 | 第19-20页 |
| ·非晶碳薄膜的改性 | 第20-25页 |
| ·本文选题依据及主要研究内容 | 第25-28页 |
| 第二章 实验方法 | 第28-34页 |
| ·基体处理 | 第28页 |
| ·基体准备 | 第28页 |
| ·基体清洗 | 第28页 |
| ·薄膜制备 | 第28-30页 |
| ·磁控溅射设备 | 第28-29页 |
| ·磁控溅射镀膜过程 | 第29-30页 |
| ·薄膜的组织结构分析 | 第30-31页 |
| ·扫描电子显微分析(SEM) | 第30页 |
| ·透射电子显微分析(TEM) | 第30-31页 |
| ·X射线光电子能谱分析(XPS) | 第31页 |
| ·拉曼光谱分析(Raman) | 第31页 |
| ·薄膜的机械性能分析 | 第31-34页 |
| ·内应力分析 | 第31页 |
| ·界面结合力测试 | 第31-32页 |
| ·纳米压痕仪 | 第32页 |
| ·摩擦磨损测试 | 第32-34页 |
| 第三章 偏压梯度含钛非晶碳复合薄膜的结构与性能 | 第34-48页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·偏压梯度含钛非晶碳复合薄膜的制备 | 第35页 |
| ·偏压梯度含钛非晶碳复合薄膜的组织结构 | 第35-41页 |
| ·偏压梯度含钛非晶碳复合薄膜的力学性能 | 第41-43页 |
| ·偏压梯度含钛非晶碳复合薄膜的摩擦学性能 | 第43-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 a-C/a-C：Ti纳米多层复合薄膜的结构与性能 | 第48-72页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·a-C/a-C：Ti纳米多层复合薄膜的初步探索 | 第49-60页 |
| ·a-C/a-C：Ti纳米多层复合薄膜的制备 | 第49页 |
| ·薄膜的组织结构 | 第49-54页 |
| ·薄膜的力学性能 | 第54-57页 |
| ·薄膜的摩擦学性能 | 第57-60页 |
| ·不同调制周期的a-C/a-C：Ti纳米多层复合薄膜 | 第60-71页 |
| ·a-C/a-C：Ti纳米多层复合薄膜的制备 | 第60-61页 |
| ·a-C/a-C：Ti纳米多层复合薄膜的组织结构 | 第61-65页 |
| ·a-C/a-C：Ti纳米多层复合薄膜的力学性能 | 第65-68页 |
| ·a-C/a-C：Ti纳米多层复合薄膜的摩擦学性能 | 第68-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-84页 |
| 致谢 | 第84-86页 |
| 个人简历 | 第86-88页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第88页 |
