APCVD法Nb:TiO2薄膜制备及其光电性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·TCO薄膜的研究现状 | 第10-14页 |
| ·FTO薄膜 | 第10-11页 |
| ·ITO薄膜 | 第11-12页 |
| ·AZO薄膜 | 第12页 |
| ·NTO薄膜 | 第12-14页 |
| ·TCO薄膜的结构与性能 | 第14-17页 |
| ·TCO薄膜的结构 | 第14页 |
| ·TCO薄膜的形貌 | 第14页 |
| ·TCO薄膜的化学价态 | 第14-15页 |
| ·TCO薄膜的光学性质 | 第15页 |
| ·TCO薄膜的电学性质 | 第15-17页 |
| ·TCO薄膜的制备方法 | 第17-22页 |
| ·溅射法 | 第17-18页 |
| ·真空蒸发法 | 第18-19页 |
| ·化学气相沉积法 | 第19-21页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第21-22页 |
| ·喷涂热分解法 | 第22页 |
| ·TCO薄膜的应用 | 第22-23页 |
| ·平板显示器 | 第22-23页 |
| ·太阳能电池 | 第23页 |
| ·透明视窗 | 第23页 |
| ·电磁防护 | 第23页 |
| ·其它方面应用 | 第23页 |
| ·选题意义和研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验与测试 | 第25-33页 |
| ·实验原料 | 第25页 |
| ·实验设备 | 第25-27页 |
| ·样品制备 | 第27-28页 |
| ·衬底清洗 | 第27页 |
| ·加反应原料 | 第27-28页 |
| ·制备薄膜 | 第28页 |
| ·材料的表征 | 第28-33页 |
| ·形貌表征 | 第28-29页 |
| ·结构表征 | 第29-30页 |
| ·成分分析 | 第30页 |
| ·光学表征 | 第30页 |
| ·电学表征 | 第30-33页 |
| 第三章 Nb:TiO_2薄膜的制备 | 第33-53页 |
| ·Nb:TiO_2薄膜的机理研究 | 第33-34页 |
| ·气流场对Nb:TiO_2薄膜的影响 | 第34-38页 |
| ·Nb:TiO_2薄膜的制备工艺参数 | 第38-51页 |
| ·反应温度对薄膜的影响 | 第38-43页 |
| ·载气(混合)流量对薄膜的影响 | 第43-47页 |
| ·载气(NbCl_5)流量对薄膜的影响 | 第47-50页 |
| ·Nb掺杂浓度的调控工艺研究 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 退火对Nb:TiO_2薄膜性能的改善 | 第53-57页 |
| ·退火对薄膜形貌的影响 | 第53-54页 |
| ·退火对薄膜结构的影响 | 第54页 |
| ·退火对薄膜光学性能的影响 | 第54-55页 |
| ·退火对薄膜电学性能的影响 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
| 个人简历 | 第67-69页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第69页 |
