| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-31页 |
| ·晶体硅太阳电池工作原理及技术 | 第11-17页 |
| ·太阳电池器件的结构及原理 | 第11-13页 |
| ·晶体硅太阳电池的主要参数 | 第13-15页 |
| ·晶体硅太阳电池的工艺技术 | 第15-17页 |
| ·晶体硅太阳电池的钝化 | 第17-26页 |
| ·太阳电池表面复合理论 | 第17-19页 |
| ·晶体硅太阳电池表面钝化机理 | 第19页 |
| ·晶体硅太阳电池表面钝化技术 | 第19-26页 |
| ·晶体硅太阳电池研究的发展和现状 | 第26-28页 |
| ·本文的研究目的和意义 | 第28-31页 |
| 第三章 实验内容及研究方法 | 第31-41页 |
| ·实验方案 | 第31-32页 |
| ·高压水蒸汽热处理对氢化非晶硅钝化效果的改善作用研究 | 第31页 |
| ·热硝酸制备超薄二氧化硅层及其钝化的研究 | 第31-32页 |
| ·快速热氧化制备薄二氧化硅层及其钝化的研究 | 第32页 |
| ·实验设备 | 第32-35页 |
| ·等离子增强化学气相沉积系统 | 第32-33页 |
| ·激光切片机 | 第33-34页 |
| ·快速热处理炉 | 第34-35页 |
| ·热蒸发真空镀膜仪 | 第35页 |
| ·测试设备 | 第35-41页 |
| ·微波光电导衰减仪 | 第35-36页 |
| ·傅里叶变换红外光谱仪 | 第36-38页 |
| ·高频电容-电压测试系统 | 第38-39页 |
| ·太阳电池效率分选机 | 第39-41页 |
| 第四章 高压水蒸汽热处理对a-Si：H钝化效果改善作用研究 | 第41-55页 |
| ·引言 | 第41-42页 |
| ·实验 | 第42-43页 |
| ·结果与分析 | 第43-53页 |
| ·有效载流子寿命变化 | 第43-45页 |
| ·光谱椭偏测试 | 第45-47页 |
| ·扫描电镜测试 | 第47-48页 |
| ·X射线能谱测试 | 第48-49页 |
| ·傅里叶变换红外光谱测试 | 第49-50页 |
| ·C-V曲线测试 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 热硝酸制备超薄二氧化硅层及其钝化的研究 | 第55-67页 |
| ·引言 | 第55-56页 |
| ·热硝酸制备超薄二氧化硅层的研究 | 第56-60页 |
| ·实验 | 第56-57页 |
| ·结果与分析 | 第57-60页 |
| ·温度对制备的二氧化硅层钝化效果及厚度的影响 | 第57-58页 |
| ·C-V曲线测试 | 第58-59页 |
| ·I-V测试 | 第59-60页 |
| ·超薄二氧化硅薄膜在不同气氛下的快速热处理 | 第60-65页 |
| ·实验 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第六章 快速热氧化制备薄二氧化硅层及其钝化的研究 | 第67-77页 |
| ·引言 | 第67页 |
| ·实验 | 第67-68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-75页 |
| ·10%O_2气氛下的RTO处理 | 第68-70页 |
| ·20%O_2气氛下的RTO处理 | 第70-72页 |
| ·100%O_2气氛下的RTO处理 | 第72-75页 |
| ·C-V曲线测试 | 第75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 第七章 全文结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-85页 |
| 致谢 | 第85-87页 |
| 个人简历 | 第87-89页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第89页 |