| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-32页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·NiO的基本性质 | 第11-14页 |
| ·NiO的晶体结构 | 第11页 |
| ·NiO的光电性质 | 第11-13页 |
| ·NiO的气敏性质 | 第13页 |
| ·NiO的电致变色性质 | 第13-14页 |
| ·NiO的制备方法 | 第14-21页 |
| ·磁控溅射(Magnetron Sputtering) | 第14-15页 |
| ·热喷雾法(Spray Pyrolysis technique,SPT) | 第15-17页 |
| ·脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD) | 第17页 |
| ·化学气相沉积(chemical vapour deposition,CVD) | 第17-18页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第18-19页 |
| ·溶液法(Solution) | 第19-21页 |
| ·体异质结有机太阳能电池的研究进展 | 第21-28页 |
| ·基于PEDOT：PSS的有机太阳能电池 | 第21-23页 |
| ·NiO基有机太阳能电池 | 第23-28页 |
| ·ITO纳米晶 | 第28-30页 |
| ·ITO的光学性能 | 第28-29页 |
| ·ITO纳米晶的表面等离子体共振 | 第29页 |
| ·溶液法合成ITO纳米晶的研究现状 | 第29-30页 |
| ·课题意义与研究内容 | 第30-32页 |
| 第二章 实验原理方法及表征手段 | 第32-40页 |
| ·实验试剂与设备 | 第32-34页 |
| ·实验装置 | 第32-33页 |
| ·实验试剂 | 第33-34页 |
| ·NiO纳米晶的合成与光电器件制备 | 第34-36页 |
| ·NiO纳米晶的合成 | 第34页 |
| ·旋涂法制备NiO纳米晶薄膜 | 第34-35页 |
| ·NiO基光电器件制备 | 第35页 |
| ·ITO纳米晶的合成 | 第35-36页 |
| ·测试手段及原理 | 第36-40页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第36-37页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第37页 |
| ·紫外-可见-近红外吸收(UV/VISNIR) | 第37-38页 |
| ·傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第38页 |
| ·电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES) | 第38页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)、紫外光电子能谱(UPS) | 第38页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第38-39页 |
| ·太阳能电池性能测试仪 | 第39页 |
| ·发光二极管性能测试系统(PLED measurement system) | 第39-40页 |
| 第三章 NiO纳米晶的合成、表征及机理研究 | 第40-54页 |
| ·NiO纳米晶的基本表征 | 第40-43页 |
| ·NiO纳米晶的XRD分析 | 第40-41页 |
| ·NiO纳米晶的TEM分析 | 第41页 |
| ·NiO纳米晶的HRTEM分析 | 第41-42页 |
| ·不同反应时间段的的FTIR分析 | 第42-43页 |
| ·LiSt在NiO纳米晶合成中的作用和机理 | 第43-49页 |
| ·硬脂酸镍的醇解 | 第43-44页 |
| ·LiSt对NiO纳米晶还原的抑制 | 第44-46页 |
| ·LiSt抑制NiO纳米晶还原的机理 | 第46-49页 |
| ·LiSt在纳米晶合成中的普适性 | 第49-52页 |
| ·LiSt抑制NiO纳米晶的胺解 | 第49-50页 |
| ·NaSt抑制NiO纳米晶的还原 | 第50-51页 |
| ·LiSt抑制Cu2O纳米晶的还原 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 NiO纳米晶在光电器件中的应用 | 第54-64页 |
| ·NiO薄膜的性能表征 | 第54-57页 |
| ·NiO薄膜的UV测试 | 第54-55页 |
| ·NiO薄膜的AFM测试 | 第55页 |
| ·NiO薄膜的XPS测试 | 第55-56页 |
| ·NiO薄膜的UPS测试 | 第56-57页 |
| ·NiO基有机太阳能电池的性能表征 | 第57-60页 |
| ·器件结构图 | 第57页 |
| ·有机太阳能电池性能表征 | 第57-60页 |
| ·NiO基高分子聚合物发光二极管的性能表征 | 第60-63页 |
| ·器件结构图 | 第60页 |
| ·高分子聚合物发光二极管性能表征 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 ITO纳米晶的合成及反应机制研究 | 第64-72页 |
| ·前驱体反应路径 | 第64-65页 |
| ·ITO纳米晶的表征 | 第65-68页 |
| ·尺寸对ITO纳米晶LSPR的影响 | 第68页 |
| ·Sn掺杂浓度对ITO纳米晶LSPR的影响 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第六章 总结与展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
| 个人简历 | 第82-84页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第84页 |
