| 致谢 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 目录 | 第11-14页 |
| 第一章绪论 | 第14-43页 |
| ·前言 | 第14-15页 |
| ·硅烷的结构、分类及成膜机理 | 第15-18页 |
| ·硅烷薄膜的制备方法 | 第18-19页 |
| ·浸涂法 | 第18页 |
| ·旋涂法 | 第18-19页 |
| ·浸渍提拉法 | 第19页 |
| ·电泳法 | 第19页 |
| ·硅烷膜改性研究 | 第19-28页 |
| ·缓蚀剂掺杂改性 | 第20-22页 |
| ·无机纳米粒子掺杂改性 | 第22-25页 |
| ·电化学辅助沉积法 | 第25-28页 |
| ·电化学辅助沉积法制备硅烷膜 | 第25-26页 |
| ·电化学辅助沉积法制备Si02 | 第26-28页 |
| ·硅烷溶液化学研究进展 | 第28-33页 |
| ·本论文选题目的和意义以及主要研究内容 | 第33-34页 |
| ·选题目的和意义 | 第33页 |
| ·主要研究内容 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-43页 |
| 第二章 实验方法 | 第43-51页 |
| ·有机涂料和化学试剂 | 第43-44页 |
| ·有机涂料 | 第43页 |
| ·化学试剂 | 第43-44页 |
| ·金属基体和表面前处理 | 第44-45页 |
| ·实验所用基体及其化学组成 | 第44-45页 |
| ·基体前处理方法 | 第45页 |
| ·硅烷溶液配置和硅烷膜制备 | 第45-46页 |
| ·硅烷溶液配置 | 第45-46页 |
| ·硅烷膜制备 | 第46页 |
| ·有机涂层制备 | 第46页 |
| ·实验仪器和表征方法 | 第46-51页 |
| ·实验仪器 | 第46-48页 |
| ·表征方法 | 第48-51页 |
| ·物理表征 | 第48-49页 |
| ·腐蚀性能评价 | 第49-51页 |
| 第三章 铈盐掺杂水性硅烷膜的制备及其短期防护性能 | 第51-65页 |
| ·引言 | 第51-52页 |
| ·实验方法 | 第52-54页 |
| ·硅烷溶液配制 | 第52页 |
| ·硅烷薄膜制备 | 第52-53页 |
| ·硅烷薄膜性能测试 | 第53-54页 |
| ·实验结果与讨论 | 第54-60页 |
| ·硝酸铈浓度对硅烷膜防护性能的影响 | 第54-55页 |
| ·GPTMS浓度对硅烷膜防护性能的影响 | 第55-56页 |
| ·硝酸铈掺杂对于硅烷溶液以及薄膜的影响 | 第56-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 第四章 以掺杂水性硅烷薄膜为预处理层构筑涂装防护体系 | 第65-78页 |
| ·引言 | 第65-66页 |
| ·实验方法 | 第66页 |
| ·硅烷溶液配制和有机涂层制备 | 第66页 |
| ·涂层结合力测试 | 第66页 |
| ·耐腐蚀性能表征 | 第66页 |
| ·铝合金基体实验结果与讨论 | 第66-73页 |
| ·涂层结合力测试 | 第66-67页 |
| ·盐水浸泡实验 | 第67-68页 |
| ·电化学阻抗谱(EIS) | 第68-71页 |
| ·缺陷涂层性能 | 第71-73页 |
| ·低碳钢基体实验结果与讨论 | 第73-76页 |
| ·涂层结合力 | 第73页 |
| ·低碳钢涂层电化学阻抗谱(EIS)数据 | 第73-74页 |
| ·缺陷涂层盐水浸泡实验 | 第74-75页 |
| ·铁离子溶出定量实验 | 第75-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-78页 |
| 第五章 结论与展望 | 第78-80页 |
| ·结论 | 第78页 |
| ·展望 | 第78-80页 |
| 附录 | 第80页 |