| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-36页 |
| ·纳米材料的效应 | 第11-13页 |
| ·纳米材料的特性 | 第13-15页 |
| ·一维纳米线的制备方法 | 第15-22页 |
| ·一维纳米材料的非模板法制备 | 第16-18页 |
| ·模板辅助法制备一维纳米结构材料 | 第18-22页 |
| ·模板辅助法组装纳米复合结构的优点 | 第18-19页 |
| ·模板的分类和制备 | 第19-20页 |
| ·模板合成纳米线阵列的方法分类 | 第20-22页 |
| ·物理气相沉积的基本原理及其特点 | 第22-26页 |
| ·磁控溅射物理气相沉积的原理及特点 | 第22-26页 |
| ·磁控溅射物理气相沉积制备薄膜的原理 | 第22-25页 |
| ·磁控溅射物理气相沉积的特点 | 第25-26页 |
| ·磁滞现象概述 | 第26-28页 |
| ·选题背景、研究内容和研究意义 | 第28-36页 |
| 第二章 化学试剂和实验方法 | 第36-42页 |
| ·化学试剂和实验材料 | 第36-37页 |
| ·实验仪器 | 第37页 |
| ·磁控溅射装置 | 第37-39页 |
| ·薄膜形貌的表征和 XRD分析 | 第39-40页 |
| ·材料磁性能的表征 | 第40页 |
| ·材料电催化性能的测试 | 第40-42页 |
| 第三章 铝基纳米点阵模板的制备 | 第42-54页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·铝基纳米点阵模板的制备 | 第43-48页 |
| ·铝基纳米点阵模板结构的影响因素 | 第48-50页 |
| ·铝的纯度及扩孔处理对有序度的影响 | 第48-49页 |
| ·不同氧化液对铝基模板凹坑间距的影响 | 第49-50页 |
| ·铝基纳米点阵模板型貌表征 | 第50-54页 |
| 第四章 纳米棒阵列的制备及其机理研究 | 第54-61页 |
| ·碳化钨纳米棒阵列的制备及表征 | 第54-56页 |
| ·碳化钨纳米棒阵列的制备 | 第54-55页 |
| ·碳化钨棒阵列 XRD表征 | 第55页 |
| ·碳化钨棒阵列表面形貌 | 第55-56页 |
| ·纳米镍棒阵列的制备及其表征 | 第56-59页 |
| ·纳米镍棒阵列的制备 | 第56-57页 |
| ·纳米镍棒阵列XRD表征 | 第57-58页 |
| ·碳化钨棒阵列表面形貌 | 第58-59页 |
| ·纳米棒阵列的制备机理分析 | 第59-61页 |
| 第五章 纳米碳化钨棒阵列薄膜电催化性能研究 | 第61-66页 |
| ·引言 | 第61-62页 |
| ·碳化钨阵列对硝基甲烷的电催化性能 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-66页 |
| 第六章 金属镍纳米棒阵列的磁性能研究 | 第66-71页 |
| ·引言 | 第66-67页 |
| ·镍纳米棒阵列的磁性能表征 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第七章 总结 | 第71-73页 |
| ·设计并制备铝基纳米点阵模板 | 第71页 |
| ·铝基纳米点阵模板—磁控溅射制备一维纳米棒阵列的机理 | 第71页 |
| ·制备碳化钨纳米棒阵列并研究其电催化性能 | 第71-72页 |
| ·制备镍纳米棒阵列并研究其磁性能 | 第72-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第73-74页 |
| 攻读硕士学位期间申请专利 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |