| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 绪论 | 第10-12页 |
| 第一章 塑料材质上薄膜制备方法及其表征技术 | 第12-22页 |
| ·真空镀膜常用塑料 | 第12-13页 |
| ·薄膜制备方法 | 第13页 |
| ·磁控溅射的基本原理及其类型 | 第13-17页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第13-14页 |
| ·磁控溅射的类型 | 第14-17页 |
| ·磁控溅射气体放电激励的类型 | 第17-18页 |
| ·薄膜材料的表征技术 | 第18-19页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第18-19页 |
| ·薄膜附着力测试 | 第19页 |
| ·薄膜应力检测方法 | 第19-22页 |
| ·基片变形法 | 第19-20页 |
| ·衍射法 | 第20-21页 |
| ·光谱法 | 第21-22页 |
| 第二章 彩色装饰性薄膜的设计和制备 | 第22-31页 |
| ·光学薄膜的颜色 | 第22页 |
| ·光的波动性 | 第22-23页 |
| ·光的干涉 | 第23-24页 |
| ·塑料材质上彩色装饰薄膜设计 | 第24-31页 |
| ·薄膜干涉原理 | 第24-27页 |
| ·膜系设计 | 第27-28页 |
| ·薄膜的制备及测量结果 | 第28-31页 |
| 第三章 单质金属装饰膜制备及工艺研究 | 第31-43页 |
| ·概述 | 第31-32页 |
| ·单质金属镍(Ni)、铬(Cr)、铝(Al)薄膜的制备 | 第32-33页 |
| ·镀膜设备及工艺流程 | 第32-33页 |
| ·实验1结果分析 | 第33页 |
| ·铝(Al)膜附着力研究 | 第33-37页 |
| ·薄膜的附着机理 | 第33-34页 |
| ·影响附着力的因素 | 第34-35页 |
| ·实验2及附着力测试 | 第35-37页 |
| ·膜厚的均匀性 | 第37-43页 |
| 第四章 彩色装饰薄膜附着力的改进 | 第43-59页 |
| ·概述 | 第43页 |
| ·薄膜应力 | 第43-46页 |
| ·薄膜应力的定义及影响 | 第43-44页 |
| ·薄膜应力分类 | 第44-46页 |
| ·PVD薄膜应力研究 | 第46-49页 |
| ·蒸发薄膜应力研究 | 第46-47页 |
| ·溅射薄膜应力研究 | 第47-49页 |
| ·薄膜应力和基底弯曲 | 第49-53页 |
| ·薄膜应力和基底曲率 | 第49-51页 |
| ·多层膜应力与基底弯曲 | 第51-53页 |
| ·装饰膜附着力改进 | 第53-59页 |
| 第五章 总结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 论文发表 | 第64页 |