| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-11页 |
| CATALOGUE | 第11-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-33页 |
| ·引言 | 第15-16页 |
| ·纳米材料概述 | 第16-19页 |
| ·纳米微粒和纳米材料定义 | 第16页 |
| ·纳米微粒特性 | 第16-19页 |
| ·纳米润滑研究概况 | 第19-21页 |
| ·摩擦、磨损及润滑概述 | 第19-20页 |
| ·纳米润滑添加剂的研究现状 | 第20-21页 |
| ·纳米润滑添加剂的种类及摩擦学性能 | 第21-23页 |
| ·层状无机物的摩擦学行为及机理研究 | 第21页 |
| ·纳米金属的摩擦学行为及机理研究 | 第21-22页 |
| ·纳米稀土化合物的摩擦学行为及机理研究 | 第22页 |
| ·纳米无机硼酸盐的摩擦学行为及机理研究 | 第22-23页 |
| ·纳米氧化物及纳米氢氧化物的摩擦学行为及机理研究 | 第23页 |
| ·高分子纳米微球的摩擦学行为及机理研究 | 第23页 |
| ·纳米微粒作为润滑添加剂的作用机理 | 第23-24页 |
| ·渗透和摩擦化学反应膜机理 | 第24页 |
| ·沉积膜作用机理 | 第24页 |
| ·滚珠机理 | 第24页 |
| ·超光滑表面作用机理 | 第24页 |
| ·纳米微粒的制备及修饰方法 | 第24-26页 |
| ·纳米微粒的制备方法 | 第24-25页 |
| ·纳米微粒的表面修饰 | 第25-26页 |
| ·纳米微粒的表征 | 第26-31页 |
| ·XRD(X-ray Diffraction) | 第27页 |
| ·TEM(Transmission Electron Microscopy) | 第27页 |
| ·光谱法 | 第27-28页 |
| ·热分析法 | 第28-29页 |
| ·X-射线光电子能谱/XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy) | 第29页 |
| ·纳米微粒极压抗磨性能的检测方法 | 第29-31页 |
| ·论文研究的意义 | 第31-32页 |
| ·论文研究的内容 | 第32-33页 |
| 第二章 膜控制扩散制备纳米镧化合物及摩擦学性能 | 第33-42页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·实验部分 | 第34-35页 |
| ·实验药品 | 第34页 |
| ·实验仪器 | 第34页 |
| ·纳米镧化合物极压抗磨剂的制备及修饰 | 第34-35页 |
| ·摩擦学性能测试(GB/T12583-1998) | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-40页 |
| ·热分析 | 第35页 |
| ·物相分析 | 第35-37页 |
| ·纳米稀土微粒在液体石蜡中的分散稳定性 | 第37-38页 |
| ·极压抗磨性测试结果 | 第38-40页 |
| ·结论 | 第40-42页 |
| 第三章 纳米硼酸镧/硼酸铜制备及摩擦学性能 | 第42-54页 |
| ·引言 | 第42-45页 |
| ·微乳液的概述 | 第42页 |
| ·微乳液法制备纳米微粒分类及形成机理 | 第42-43页 |
| ·微乳液的相行为 | 第43-44页 |
| ·影响纳米微粒尺寸的因素 | 第44-45页 |
| ·实验 | 第45-47页 |
| ·实验药品 | 第45-46页 |
| ·实验仪器 | 第46页 |
| ·纳米硼酸镧/硼酸铜微粒的制备 | 第46页 |
| ·纳米硼酸铜微粒的制备 | 第46页 |
| ·纳米硼酸镧微粒的制备 | 第46页 |
| ·添加剂、基础油及样品的制备 | 第46-47页 |
| ·表征 | 第47-50页 |
| ·热分析 | 第47-48页 |
| ·XRD | 第48-49页 |
| ·TEM | 第49-50页 |
| ·最大无卡咬负荷(P_B值) | 第50页 |
| ·反应机理探讨 | 第50-54页 |
| 第四章 纳米氧化镧的制备及其摩擦学性能 | 第54-68页 |
| ·引言 | 第54-58页 |
| ·表面活性剂对纳米微粒制备的影响 | 第54-56页 |
| ·摩擦化学 | 第56-57页 |
| ·摩擦副表面的摩擦过程 | 第57-58页 |
| ·实验 | 第58-59页 |
| ·实验药品 | 第58页 |
| ·实验仪器 | 第58-59页 |
| ·纳米草酸镧及氧化镧的制备 | 第59页 |
| ·产品表征 | 第59-66页 |
| ·热分析 | 第59-60页 |
| ·TEM图分析 | 第60-63页 |
| ·焙烧温度对纳米氧化镧比表面积的影响 | 第63页 |
| ·红外光谱 | 第63-65页 |
| ·梯姆肯试验法测试氧化镧极压抗磨性 | 第65-66页 |
| ·纳米氧化镧抗磨减摩作用机理探讨 | 第66-67页 |
| ·结论 | 第67-68页 |
| 第五章 水热法制备纳米氢氧化镧 | 第68-77页 |
| ·引言 | 第68-70页 |
| ·水热技术特点 | 第68-69页 |
| ·晶体生长模型 | 第69-70页 |
| ·低受限条件下晶体生长的基元过程 | 第70页 |
| ·实验 | 第70-71页 |
| ·实验药品 | 第70页 |
| ·实验仪器 | 第70-71页 |
| ·氢氧化镧的制备 | 第71页 |
| ·表征 | 第71-75页 |
| ·XRD | 第71-72页 |
| ·TEM | 第72-75页 |
| ·晶体生长机理的探讨 | 第75-76页 |
| ·结论 | 第76-77页 |
| 展望 | 第77-78页 |
| 攻读硕士研究生期间发表的论文 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-84页 |