| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 多孔硅应用研究综述 | 第9-20页 |
| §1.1 多孔硅发光材料的研究背景和意义 | 第9页 |
| §1.2 多孔硅的研究现状 | 第9-18页 |
| ·多孔硅制备方法、微结构和形成机理 | 第9-12页 |
| ·多孔硅发光机理 | 第12-14页 |
| ·多孔硅的光致发光和电致发光 | 第14-16页 |
| ·多孔硅表面钝化技术 | 第16-17页 |
| ·多孔硅复合体系发光 | 第17-18页 |
| §1.3 多孔硅应用前景 | 第18-20页 |
| 第二章 多孔硅液态接触型电致发光特性研究 | 第20-24页 |
| §2.1 发光机理 | 第20-21页 |
| §2.2 实验样品的制备 | 第21-22页 |
| §2.3 多孔硅液态接触下的电致发光特性研究 | 第22-24页 |
| 第三章 多孔硅异质结电致发光器件发光特性研究 | 第24-42页 |
| §3.1 发光机理 | 第24页 |
| §3.2 实验样品的制备与测量 | 第24-32页 |
| ·Al电极的制备 | 第24-25页 |
| ·多孔硅的制备 | 第25页 |
| ·ITO透明电极的制备 | 第25-32页 |
| §3.3 多孔硅异质结电致发光器件发光特性研究 | 第32-35页 |
| §3.4 多孔硅异质结电致发光器件Ⅰ-Ⅴ特性研究 | 第35-37页 |
| §3.5 多孔硅制备条件对其电致发光特性的影响 | 第37-42页 |
| ·电流密度对多孔硅电致发光谱的影响 | 第38-40页 |
| ·腐蚀时间对多孔硅电致发光谱的影响 | 第40页 |
| ·电解液浓度对多孔硅电致发光谱的影响 | 第40-42页 |
| 第四章 后处理对多孔硅电致发光特性的影响 | 第42-47页 |
| §4.1 热氧化法提高多孔硅电致发光强度研究 | 第42-44页 |
| §4.2 (NH_4)_2S钝化多孔硅电致发光研究 | 第44-47页 |
| 第五章 总结 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-58页 |
| 在校期间的研究成果及发表的学术论文 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60页 |