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InGaN/GaN量子点中三阶非线性光学极化率的研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
引言第8-10页
第一章 GaN量子点简介第10-26页
 §1.1 GaN材料的生产与发展第10-12页
 §1.2 量子点的量子效应第12-15页
     ·表面效应第13页
     ·量子限域效应第13-14页
     ·宏观量子隧道效应第14页
     ·量子尺寸效应第14-15页
 §1.3 量子点的能态密度和能带理论第15-23页
     ·量子点的能态密度第15-18页
     ·量子点的能带理论第18-23页
 §1.4 半导体量子点的应用第23页
 §1.5 量子点中的激子第23-26页
第二章 理论模型和计算方法第26-43页
 §2.1 非线性极化率的计算第26-36页
     ·经典理论第26-28页
     ·半经典理论(微扰理论)第28-30页
     ·密度矩阵方法第30-36页
 §2.2 In_xGa_(1-x)N/GaN柱型量子点及其薛定谔方程第36-38页
 §2.3 一类薛定谔方程的解第38-43页
     ·数值求解有效质量薛定谔方程第38-41页
     ·艾里函数方法第41-43页
第三章 计算结果和讨论第43-59页
 §3.1 In_xGa_(1-x)/GaN量子点不同方向的三阶非线性极化率第43-47页
 §3.2 尺寸分布对量子点三阶非线性极化率的影响第47-51页
 §3.3 量子点中激子的研究第51-59页
     ·In_xGa_(1-x)N/GaN量子点中激子的束缚能第51-54页
     ·In_xGa_(1-x)N/GaN量子点中双激子态下非线性吸收和增益第54-59页
第四章 结论第59-60页
参考文献第60-63页
致谢第63页
硕士生学习期间发表论文第63页

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