二元光学元件矢量衍射设计与并行直写制作
目录 | 第1-6页 |
摘要 | 第6-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第8-15页 |
§1.1 二元光学简介 | 第8-11页 |
1.1.1 二元光学的基本概念 | 第8页 |
1.1.2 二元光学元件的设计理论 | 第8-10页 |
1.1.3 二元光学元件的制作工艺 | 第10页 |
1.1.4 二元光学元件的应用领域 | 第10-11页 |
§1.2 目前的研究动态 | 第11-13页 |
1.2.1 矢量衍射理论研究动态 | 第11-12页 |
1.2.2 直写制作工艺研究动态 | 第12-13页 |
§1.3 本文的内容安排 | 第13-15页 |
第二章 亚波长结构光栅的设计理论 | 第15-23页 |
§2.1 一维严格耦合波分析理论 | 第15-18页 |
§2.2 二维严格耦合波分析理论 | 第18-21页 |
§2.3 等效介质理论 | 第21-22页 |
§2.4 本章小结 | 第22-23页 |
第三章 抗反射光栅的设计与特性分析 | 第23-36页 |
§3.1 抗反射光栅设计背景 | 第23-24页 |
§3.2 一维光栅抗反射设计与特性分析 | 第24-28页 |
3.2.1 一维光栅不发生衍射的条件 | 第24-25页 |
3.2.2 一维单层光栅抗反射设计与特性分析 | 第25-27页 |
3.2.3 一维多层光栅抗反射设计与特性分析 | 第27-28页 |
§3.3 二维光栅抗反射设计与特性分析 | 第28-35页 |
3.3.1 二维光栅不发生衍射的条件 | 第28-29页 |
3.3.2 二维单层光栅抗反射设计与特性分析 | 第29-32页 |
3.3.3 二维多层光栅抗反射设计与特性分析 | 第32-35页 |
§3.4 本章小结 | 第35-36页 |
第四章 偏振分束光栅的设计与特性分析 | 第36-44页 |
§4.1 一维偏振分束光栅设计与特性分析 | 第36-39页 |
§4.2 单层薄膜偏振分束光栅设计与特性分析 | 第39-40页 |
§4.3 多层薄膜偏振分束光栅设计与特性分析 | 第40-43页 |
§4.4 本章小结 | 第43-44页 |
第五章 亚波长结构Dammann光栅设计 | 第44-59页 |
§5.1 亚波长Dammann光栅的设计原理 | 第45-47页 |
5.1.1 亚波长Dammann光栅的光栅结构 | 第45-46页 |
5.1.2 Dammann光栅设计方法 | 第46-47页 |
§5.2 遗传算法 | 第47-51页 |
§5.3 亚波长Dammann光栅的设计实例 | 第51-53页 |
5.3.1 分束数为5的Dammann光栅 | 第51页 |
5.3.2 分束数为7的Dammann光栅 | 第51-52页 |
5.3.3 分束数为9的Dammann光栅 | 第52-53页 |
§5.4 设计结果分析 | 第53-56页 |
5.4.1 衍射效率分析 | 第53-54页 |
5.4.2 波长唯一性和偏振唯一性 | 第54-56页 |
5.4.3 衍射角度 | 第56页 |
§5.5 制作精度对Dammann光栅的影响 | 第56-58页 |
§5.6 本章小结 | 第58-59页 |
第六章 二元光学元件的并行直写制作 | 第59-73页 |
§6.1 二元光学元件制作工艺综述 | 第59-61页 |
§6.2 并行直写系统简介 | 第61-65页 |
6.2.1 并行直写系统的设计理论基础 | 第62-63页 |
6.2.2 光源 | 第63页 |
6.2.3 空间光调制器 | 第63页 |
6.2.4 光学系统 | 第63-64页 |
6.2.5 快门 | 第64页 |
6.2.6 二维气浮平台 | 第64-65页 |
§6.3 制作工艺 | 第65-69页 |
6.3.1 基片预处理 | 第65页 |
6.3.2 匀胶 | 第65-66页 |
6.3.3 前烘 | 第66页 |
6.3.4 并行直写 | 第66-68页 |
6.3.5 显影 | 第68页 |
6.3.6 后烘 | 第68页 |
6.3.7 刻蚀 | 第68-69页 |
6.3.8 去胶 | 第69页 |
§6.4 实验结果 | 第69-72页 |
§6.5 本章小结 | 第72-73页 |
第七章 结论与展望 | 第73-75页 |
§7.1 主要研究结论 | 第73-74页 |
§7.2 进一步研究展望 | 第74-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-83页 |
作者在攻读硕士期间的论文和成果 | 第83页 |