| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 大功率半导体激光器阵列概述 | 第8-16页 |
| ·大功率激光器阵列的应用 | 第8-9页 |
| ·大功率激光器阵列概述 | 第9-10页 |
| ·大功率激光器阵列的关键技术 | 第10-12页 |
| ·大功率激光器阵列的发展现状.发展趋势 | 第12-14页 |
| ·本文研究的重点和意义 | 第14-16页 |
| 第二章 大功率半导体激光器阵列的热源 | 第16-22页 |
| ·热源产生分析 | 第16-18页 |
| ·大功率激光器阵列的热功率 | 第18-19页 |
| ·大功率激光器阵列的热阻 | 第19页 |
| ·大功率激光器阵列的温度特性 | 第19-22页 |
| ·温度对阈值电流的影响 | 第19-20页 |
| ·温度对激射波长的影响 | 第20-22页 |
| 第三章 大功率激光器阵列的温度模型 | 第22-33页 |
| ·温度的时间分布模型 | 第22-24页 |
| ·温度的空间分布模型 | 第24-33页 |
| ·差分方程的建立 | 第24-27页 |
| ·空间分布的计算程序 | 第27-29页 |
| ·温度空间分布模型 | 第29-33页 |
| 第四章 高占空比大功率激光器的设计与制作 | 第33-38页 |
| ·设计的重点和关键问题 | 第33-34页 |
| ·激光器阵列的工艺制作过程 | 第34-36页 |
| ·高占空比大功率激光器线阵列 | 第36-38页 |
| 第五章 数据结果分析和讨论 | 第38-46页 |
| ·电制冷与水制冷的对比实验 | 第38-39页 |
| ·激光器阵列基本参数的测定 | 第39-40页 |
| ·激光器阵列有源区温升和热阻的测定 | 第40-41页 |
| ·保持20％占空比，改变注入电流的重复频率(或脉宽)的实验 | 第41-44页 |
| ·对温度分布模型的一点讨论--腔面温度 | 第44-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 攻读学位期间所取得相关科研成果 | 第51页 |