| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-12页 |
| 第二章 强关联氧化物材料 | 第12-19页 |
| ·强关联氧化物材料 | 第12-13页 |
| ·超巨磁电阻材料 | 第13-16页 |
| ·超巨磁电阻材料的应用 | 第16-18页 |
| ·测辐射热仪 | 第16-17页 |
| ·热电势效应及其应用 | 第17-18页 |
| ·小结 | 第18-19页 |
| 第三章 脉冲激光沉积薄膜 | 第19-33页 |
| ·脉冲激光沉积薄膜的发展 | 第19-23页 |
| ·第一阶段(1960-1970) | 第20页 |
| ·第二阶段(1970-1980) | 第20-21页 |
| ·第三阶段(1980-1987) | 第21-22页 |
| ·第四阶段(1987- ) | 第22-23页 |
| ·脉冲激光沉积薄膜设备 | 第23-28页 |
| ·激光源 | 第23-24页 |
| ·光学系统 | 第24-25页 |
| ·沉积系统 | 第25-27页 |
| ·其它 | 第27-28页 |
| ·脉冲激光沉积薄膜的理论 | 第28-32页 |
| ·激光与靶材相互作用 | 第28-29页 |
| ·激光与蒸发物质相互作用 | 第29-30页 |
| ·等离子体绝热膨胀及薄膜沉积 | 第30-31页 |
| ·讨论 | 第31-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 第四章 准分子激光沉积CMR薄膜 | 第33-44页 |
| ·准分子激光概述 | 第33-35页 |
| ·准分子激光基本原理 | 第33-35页 |
| ·准分子激光制备氧化物薄膜的优点 | 第35页 |
| ·La_(0.67)Ca_(0.33)MnO_3多晶材料的制备及性质 | 第35-38页 |
| ·La_(0.67)Ca_(0.33)MnO_3多晶材料烧结 | 第35-36页 |
| ·La_(0.67)Ca_(0.33)MnO_3多晶材料的性质 | 第36-38页 |
| ·准分子激光沉积La_(0.67)Ca_(0.33)MnO_3薄膜 | 第38-41页 |
| ·实验设备简介 | 第38-39页 |
| ·薄膜沉积工艺 | 第39-40页 |
| ·薄膜沉积过程中的几个问题 | 第40-41页 |
| ·La_(0.67)Ca_(0.33)MnO_3薄膜的后处理工艺(退火处理) | 第41-42页 |
| ·La_(0.66)(Ca_(1-y)Sr_y)_(0.33)MnO_3薄膜制备探索 | 第42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 第五章 实验结果及分析 | 第44-65页 |
| ·电阻-温度自动测试系统的建立 | 第44-47页 |
| ·系统原理及组建 | 第44-46页 |
| ·测量精度讨论 | 第46-47页 |
| ·结论 | 第47页 |
| ·薄膜厚度的测量及淀积速率计算 | 第47-48页 |
| ·薄膜性质的测量 | 第48-52页 |
| ·XRD | 第48页 |
| ·SEM | 第48-50页 |
| ·R-T | 第50-52页 |
| ·MR | 第52页 |
| ·影响薄膜制备的几个因素 | 第52-55页 |
| ·衬底温度及环境氧气压 | 第54-55页 |
| ·其它因素 | 第55页 |
| ·衬底类型对薄膜性质的影响 | 第55-57页 |
| ·后退火工艺的影响及薄膜性质的改善 | 第57-62页 |
| ·退火工艺参数的选择 | 第58页 |
| ·结果及讨论 | 第58-62页 |
| ·掺杂对材料性质的影响 | 第62-63页 |
| ·有关测量的几个问题 | 第63-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 第六章 超巨磁电阻Bolometer应用研究 | 第65-83页 |
| ·光探测 | 第65-77页 |
| ·光探测器概述 | 第65-70页 |
| ·光子探测器 | 第70-75页 |
| ·热探测器 | 第75-77页 |
| ·超巨磁电阻Bolometer | 第77-81页 |
| ·测辐射热仪概述 | 第77-78页 |
| ·理论分析 | 第78-79页 |
| ·实验 | 第79-81页 |
| ·小结 | 第81-83页 |
| 第七章 结论 | 第83-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-92页 |
