| 第一章 绪论 | 第1-25页 |
| 第一节 引言 | 第9-12页 |
| 第二节 碳化硅薄膜的研究现状 | 第12-23页 |
| 第三节 选题依据 | 第23-25页 |
| 第二章 实验 | 第25-29页 |
| 第一节 碳化硅薄膜的制备 | 第25-28页 |
| 第二节 碳化硅薄膜的退火 | 第28页 |
| 第三节 碳化硅薄膜的特性测量 | 第28-29页 |
| 第三章 实验结果与讨论 | 第29-50页 |
| 第一节 氮退火对碳化硅薄膜的影响 | 第29-36页 |
| 第二节 氢退火对碳化硅薄膜的影响 | 第36-42页 |
| 第三节 碳纳米线的制备 | 第42-45页 |
| 第四节 氮、氢退火对碳化硅薄膜影响的对比分析 | 第45-48页 |
| 第五节 碳化硅薄膜的光致荧光特性 | 第48-50页 |
| 第四章 结论 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-59页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第59页 |