| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-12页 |
| 目录 | 第12-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-35页 |
| ·引言 | 第15-16页 |
| ·常见的膜层材料 | 第16-17页 |
| ·膜层的沉积方法 | 第17-19页 |
| ·电弧离子镀 | 第19-29页 |
| ·电弧离子镀沉积原理 | 第20-23页 |
| ·电弧离子镀研究进展 | 第23-24页 |
| ·电弧离子镀的应用 | 第24-25页 |
| ·电弧离子镀技术沉积的TiAlN膜层及其国内外研究现状 | 第25-28页 |
| ·TiAlN国外研究现状 | 第25-26页 |
| ·TiAlN国内研究现状 | 第26-28页 |
| ·电弧离子镀存在的问题和解决现状 | 第28-29页 |
| ·脉冲离子束辅助电弧离子镀沉积技术 | 第29-33页 |
| ·脉冲离子束辅助电弧离子镀沉积原理 | 第30-31页 |
| ·脉冲离子束与基材表面的相互作用 | 第31-32页 |
| ·等离子体在气相沉积过程中的作用 | 第32-33页 |
| ·本论文的研究目的、意义和内容 | 第33-35页 |
| ·研究目的 | 第33页 |
| ·研究的意义 | 第33-34页 |
| ·研究的内容 | 第34-35页 |
| 第二章 试验设备与试验方法 | 第35-42页 |
| ·试验设备简介 | 第35-39页 |
| ·电弧蒸发器 | 第36-37页 |
| ·气体离子源 | 第37-39页 |
| ·两路脉冲进气系统 | 第39页 |
| ·试验方法 | 第39-42页 |
| ·试样和膜层的制备及工艺参数 | 第39-40页 |
| ·基材和膜层性能的分析 | 第40-42页 |
| 第三章 脉冲N离子束轰击对基材性能的影响 | 第42-56页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·脉冲N离子束轰击对基材形貌的影响 | 第43-46页 |
| ·改性层微区成分分析 | 第46-50页 |
| ·改性层的相结构 | 第50-51页 |
| ·脉冲N离子轰击时间对基材温度的影响 | 第51-52页 |
| ·改性层硬度分析 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 脉冲N离子束辅助轰击对TiAlN膜层性能的影响 | 第56-91页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·脉冲N离子束轰击对膜层形貌的影响 | 第56-62页 |
| ·脉冲N离子束轰击对膜层厚度的影响 | 第62-63页 |
| ·膜层表面微区成分分析 | 第63-68页 |
| ·TiAlN膜层相结构分析 | 第68-72页 |
| ·脉冲N离子轰击对基材温度的影响 | 第72-74页 |
| ·脉冲N离子轰击对膜层显微硬度的影响 | 第74-76页 |
| ·脉冲N离子轰击对膜层和基材结合强度的影响 | 第76-80页 |
| ·脉冲N离子轰击对膜层耐磨性的影响 | 第80-84页 |
| ·脉冲N离子轰击对膜层抗氧化性能的影响 | 第84-86页 |
| ·脉冲N离子轰击对膜层耐腐蚀性的影响 | 第86-89页 |
| ·本章小结 | 第89-91页 |
| 第五章 脉冲N离子束轰击对已沉积TiAlN膜层性能的影响 | 第91-103页 |
| ·引言 | 第91页 |
| ·脉冲N离子轰击对膜层形貌的影响 | 第91-96页 |
| ·TiAlN膜层相结构分析 | 第96-97页 |
| ·脉冲N离子束轰击对膜层显微硬度的影响 | 第97-98页 |
| ·脉冲N离子束轰击对膜层和基材结合力的影响 | 第98-99页 |
| ·脉冲N离子轰击对膜层耐磨性的影响 | 第99-100页 |
| ·脉冲N离子轰击对膜层抗氧化性能的影响 | 第100-101页 |
| ·脉冲N离子轰击对膜层耐腐蚀性的影响 | 第101页 |
| ·本章小结 | 第101-103页 |
| 第六章 结论 | 第103-105页 |
| 参考文献 | 第105-114页 |
| 创新点 | 第114-115页 |
| 工作展望 | 第115-116页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及科研情况 | 第116-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
| 作者简介 | 第118页 |
