| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 铝锂合金的研究历史进程 | 第9-12页 |
| 1.2.1 国外研究概况 | 第10-11页 |
| 1.2.2 国内研究概况 | 第11-12页 |
| 1.2.3 铝锂合金的主要应用 | 第12页 |
| 1.3 铝锂合金体系 | 第12-16页 |
| 1.3.1 Al-Li系 | 第12-13页 |
| 1.3.2 Al-Li-Cu系 | 第13-14页 |
| 1.3.3 Al-Li-Cu-Mg-Zr系 | 第14-15页 |
| 1.3.4 Al-Li-Cu-Mg-Ag-Zr系 | 第15页 |
| 1.3.5 铝锂合金析出相总结 | 第15-16页 |
| 1.4 纳米结构材料 | 第16-18页 |
| 1.4.1 纳米结构材料的微观组织 | 第16-17页 |
| 1.4.2 纳米结构材料的力学性能 | 第17页 |
| 1.4.3 第二相对纳米结构材料力学性能与微观组织的影响 | 第17-18页 |
| 1.5 铝锂合金的热处理工艺 | 第18-19页 |
| 1.5.1 固溶处理 | 第18-19页 |
| 1.5.2 时效处理 | 第19页 |
| 1.6 铝锂合金强韧化途径 | 第19-21页 |
| 1.6.1 形变热处理 | 第20页 |
| 1.6.2 微合金化 | 第20-21页 |
| 1.6.3 分级时效 | 第21页 |
| 1.7 本课题的研究目的、内容及意义 | 第21-23页 |
| 2 实验材料与测试方法 | 第23-27页 |
| 2.1 实验材料 | 第23页 |
| 2.2 实验方案 | 第23-24页 |
| 2.3 热处理工艺 | 第24页 |
| 2.3.1 固溶处理 | 第24页 |
| 2.3.2 时效处理 | 第24页 |
| 2.4 组织性能检测 | 第24-27页 |
| 2.4.1 维氏硬度测试 | 第24页 |
| 2.4.2 拉伸测试 | 第24-25页 |
| 2.4.3 XRD物相分析 | 第25页 |
| 2.4.4 扫描电镜观察(SEM) | 第25页 |
| 2.4.5 透射电镜观察(TEM) | 第25-27页 |
| 3 Al-Cu-Li合金固溶及时效工艺探究 | 第27-33页 |
| 3.1 固溶工艺探究 | 第27-28页 |
| 3.2 室温下形变材料的组织探究 | 第28-29页 |
| 3.3 纳米结构Al-Cu-Li合金时效工艺探究 | 第29-31页 |
| 3.4 本章小结 | 第31-33页 |
| 4 纳米结构Al-Cu-Li合金时效力学性能探究 | 第33-49页 |
| 4.1 纳米结构Al-Cu-Li合金的力学性能 | 第33-34页 |
| 4.2 纳米结构Al-Cu-Li合金时效后的硬度 | 第34页 |
| 4.3 低温区(120℃~140℃)时效的力学性能 | 第34-37页 |
| 4.4 高温区(170℃~190℃)时效的力学性能 | 第37-40页 |
| 4.5 合金时效性能对比图 | 第40-41页 |
| 4.6 分析与讨论 | 第41-47页 |
| 4.6.1 形变态纳米结构Al-Cu-Li合金的强化效应 | 第41-43页 |
| 4.6.2 时效工艺对纳米结构Al-Cu-Li合金强化效应的影响 | 第43-44页 |
| 4.6.3 纳米结构材料及其时效过程中的塑性 | 第44页 |
| 4.6.4 三种时效工艺的力学性能对比 | 第44-47页 |
| 4.7 本章小结 | 第47-49页 |
| 5 纳米结构Al-Cu-Li合金时效微观组织探究 | 第49-71页 |
| 5.1 室温下形变材料的组织探究 | 第49-50页 |
| 5.2 140 ℃不同时间时效后的微观组织 | 第50-59页 |
| 5.2.1 拉伸断口SEM分析 | 第50-51页 |
| 5.2.2 XRD分析 | 第51-52页 |
| 5.2.3 TEM分析 | 第52-59页 |
| 5.3 170 ℃时效后组织探究 | 第59-63页 |
| 5.3.1 拉伸断口分析 | 第59-60页 |
| 5.3.2 XRD分析 | 第60-61页 |
| 5.3.3 TEM分析 | 第61-63页 |
| 5.4 层状界面间距探究 | 第63-64页 |
| 5.5 分析与讨论 | 第64-69页 |
| 5.6 本章小结 | 第69-71页 |
| 6 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 附录 | 第79-81页 |
| A.作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第79页 |
| B.学位论文数据集 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
