| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·研究背景及选题 | 第10-12页 |
| ·研究背景及选题 | 第10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-12页 |
| ·研究意义 | 第12页 |
| ·论文的结构与研究内容 | 第12-15页 |
| 第二章 SPC与常规控制图技术 | 第15-25页 |
| ·SPC技术概述 | 第15-16页 |
| ·引起工艺质量起伏的两类原因 | 第15-16页 |
| ·工艺统计受控的含义 | 第16页 |
| ·统计过程控制（SPC） | 第16页 |
| ·常规控制图技术 | 第16-23页 |
| ·控制图的数学原理 | 第16-18页 |
| ·控制图的组成 | 第18页 |
| ·控制图技术的核心问题 | 第18-21页 |
| ·应用控制图技术的基本步骤 | 第21页 |
| ·常规控制图的类型 | 第21-23页 |
| ·应用常规控制图应注意的几个问题 | 第23页 |
| ·本章小结 | 第23-25页 |
| 第三章 自相关及时间序列的理论知识 | 第25-35页 |
| ·自相关过程与识别 | 第25-32页 |
| ·平稳过程的自相关函数 | 第25-27页 |
| ·自回归—滑动平均混合过程 | 第27-28页 |
| ·关于自相关的分析与检验 | 第28-31页 |
| ·自相关和偏相关函数在识别中的应用 | 第31-32页 |
| ·时间序列理论知识 | 第32-34页 |
| ·平稳时间序列 | 第32-33页 |
| ·非平稳时间序列 | 第33页 |
| ·时间序列的自相关 | 第33-34页 |
| ·自回归模型描述 | 第34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 自相关过程控制图 | 第35-71页 |
| ·通过修改控制限消除数据自相关 | 第36-38页 |
| ·常规“均值—标准偏差”控制图（(X|ˉ)-s 控制图） | 第36页 |
| ·修正控制限控制图（Modified Chart） | 第36-38页 |
| ·通过生成残差序列消除数据自相关 | 第38-66页 |
| ·单值(X ) 控制图 | 第38-39页 |
| ·残差控制图 | 第39-40页 |
| ·AR(1)自相关模型仿真分析 | 第40-60页 |
| ·AR(1)自相关模型实例验证 | 第60-66页 |
| ·不连续抽样对自相关统计过程控制的影响 | 第66-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第五章 结束语 | 第71-73页 |
| ·本文的主要贡献 | 第71-72页 |
| ·后续工作展望 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 附录A | 第77-79页 |