基于平面环形微腔的高精度位移传感器的设计及工艺方法研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·课题的研究背景和意义 | 第8-9页 |
| ·国内外研究现状 | 第9-13页 |
| ·平面环形微腔的国内外研究现状 | 第9-11页 |
| ·GaAs 基MEMS 器件的研究现状 | 第11-13页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 位移传感器的工作原理 | 第14-21页 |
| ·位移传感器的工作原理 | 第14-17页 |
| ·光弹效应 | 第14页 |
| ·微纳光纤环的验证性实验 | 第14-16页 |
| ·位移传感器的工作原理 | 第16-17页 |
| ·微腔的各重要性能指标分析 | 第17-18页 |
| ·位移传感器的灵敏度及噪声分析 | 第18-19页 |
| ·位移传感器的总体设计方案 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第三章 位移传感器的结构设计 | 第21-39页 |
| ·悬臂梁的结构设计 | 第21-29页 |
| ·悬臂梁的设计 | 第21-22页 |
| ·薄膜材料的设计 | 第22-23页 |
| ·位移传感器的力学特性研究 | 第23-25页 |
| ·位移传感器的有限元仿真分析 | 第25-29页 |
| ·光波导与环形微腔设计 | 第29-38页 |
| ·光波导的设计 | 第29-30页 |
| ·平面环形微腔的设计 | 第30-34页 |
| ·耦合间距的仿真与分析 | 第34-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 传感器的工艺加工 | 第39-51页 |
| ·关键工艺介绍 | 第39-41页 |
| ·高分辨率光刻工艺介绍 | 第39-40页 |
| ·电子束（EB） | 第40页 |
| ·聚焦离子束（FIB） | 第40-41页 |
| ·光波导的电子束曝光 | 第41-42页 |
| ·工艺流程 | 第42-47页 |
| ·工艺流程表 | 第42-44页 |
| ·版图设计及说明 | 第44-47页 |
| ·传感器的形貌分析 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 位移传感器测试方法的探索性研究 | 第51-62页 |
| ·位移传感器的总体测试方案 | 第51-52页 |
| ·光波导与单模光纤的耦合方法研究 | 第52-56页 |
| ·光波导与光纤的耦合理论 | 第52-53页 |
| ·光波导与单模光纤的直接耦合 | 第53-55页 |
| ·各种模斑转换器的研究进展 | 第55-56页 |
| ·信号调制原理 | 第56-57页 |
| ·位移传感器的初步测试 | 第57-60页 |
| ·测试平台搭建 | 第57-58页 |
| ·测试中遇到的问题及解决方案 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 总结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 攻读硕士期间主要研究工作及所取得的研究成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
