| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 文献综述与论文设想 | 第7-21页 |
| ·苯甲醛的性质和用途 | 第7-8页 |
| ·苯甲醛制备方法的研究现状 | 第8-13页 |
| ·亚苄基二氯水解法 | 第8页 |
| ·甲苯的气相氧化法 | 第8-9页 |
| ·钒基催化剂 | 第8-9页 |
| ·钼基催化剂 | 第9页 |
| ·分子筛催化剂 | 第9页 |
| ·甲苯的液相氧化法 | 第9-10页 |
| ·钴基催化剂 | 第9-10页 |
| ·八面体分子筛催化剂 | 第10页 |
| ·电解氧化法 | 第10页 |
| ·还原法 | 第10-11页 |
| ·苯甲醇氧化法 | 第11-12页 |
| ·用铬化合物氧化 | 第11页 |
| ·用分子氧氧化 | 第11-12页 |
| ·用过氧化物氧化 | 第12页 |
| ·三氧化二锰法 | 第12页 |
| ·烯烃环氧化法 | 第12-13页 |
| ·催化剂的选择 | 第13-20页 |
| ·钛硅分子筛 | 第13-14页 |
| ·混合氧化物型过渡金属催化材料 | 第14-15页 |
| ·负载型钛硅催化剂 | 第15-16页 |
| ·高度隔离过渡金属催化剂 | 第16-20页 |
| ·浸渍法制备高度隔离过渡金属催化剂 | 第16-17页 |
| ·溶胶-凝胶法制备高度隔离过渡金属催化剂 | 第17页 |
| ·离子交换法制备高度隔离过渡金属催化剂 | 第17页 |
| ·沉淀法制备高度隔离过渡金属催化剂 | 第17页 |
| ·化学气相沉积法制备高度隔离过渡金属催化剂 | 第17-18页 |
| ·离子束注入法制备高度隔离过渡金属催化剂 | 第18-20页 |
| ·论文构思 | 第20-21页 |
| 第二章 实验部分 | 第21-25页 |
| ·实验设备 | 第21页 |
| ·催化剂制备 | 第21-22页 |
| ·离子束注入法制备高度隔离过渡金属催化剂 | 第21页 |
| ·浸渍法制备高度隔离过渡金属催化剂 | 第21-22页 |
| ·载体SiO_2的处理 | 第21-22页 |
| ·Cu-SiO_2催化剂的制备 | 第22页 |
| ·Cu-SiO_2催化剂的预处理 | 第22页 |
| ·试剂 | 第22页 |
| ·仪器 | 第22页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第22-23页 |
| ·活性和选择性的计算 | 第23页 |
| ·催化剂表征 | 第23-25页 |
| ·催化剂中金属含量的测定(ICP) | 第23页 |
| ·比表面积分析(BET) | 第23页 |
| ·电子顺磁共振谱(ESR) | 第23-24页 |
| ·程序升温还原(H_2-TPR) | 第24-25页 |
| 第三章 离子束注入法制备M-SiO_2催化剂及氧化苯甲醇的研究 | 第25-34页 |
| ·前言 | 第25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-33页 |
| ·催化剂的表征 | 第25-27页 |
| ·等离子体发射光谱(ICP) | 第25页 |
| ·比表面积分析(BET) | 第25-26页 |
| ·电子顺磁共振谱(ESR) | 第26-27页 |
| ·程序升温还原(H_2-TPR) | 第27页 |
| ·催化性能研究 | 第27-31页 |
| ·制备条件和反应条件对催化剂性能的影响 | 第31-33页 |
| ·Ti离子注入量对反应的影响 | 第31页 |
| ·反应温度对反应的影响 | 第31-32页 |
| ·反应时间对反应的影响 | 第32页 |
| ·双氧水对反应的影响 | 第32-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 第四章 浸渍法制备的Cu-SiO_2催化剂对苯甲醇氧化反应活性的研究 | 第34-39页 |
| ·前言 | 第34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-38页 |
| ·Cu-SiO_2催化剂表征 | 第34-35页 |
| ·比表面积分析(BET) | 第34页 |
| ·程序升温还原(H_2-TPR) | 第34-35页 |
| ·Cu-SiO_2催化剂的催化性能 | 第35-38页 |
| ·SiO_2载体经过不同温度焙烧处理后负载上Cu的催化剂对反应的影响 | 第35-36页 |
| ·铜负载量和不同焙烧气氛对反应的影响 | 第36-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 结论 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 硕士期间发表论文 | 第50-51页 |
