摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-6页 |
目录 | 第6-8页 |
1 绪论 | 第8-15页 |
·引言 | 第8-9页 |
·ZnO的结构和光电特性 | 第9-11页 |
·ZnO的结构特性 | 第9页 |
·ZnO的光学特性 | 第9-11页 |
·ZnO在光电器件的应用及前景 | 第11-12页 |
·ZnO薄膜光学特性的研究现状 | 第12-14页 |
·本论文的主要研究内容 | 第14-15页 |
2 ZnO薄膜的生长技术与表征 | 第15-26页 |
·ZnO薄膜的主要制备技术 | 第15-20页 |
·溅射法(Sputtering) | 第15-16页 |
·脉冲激光沉积法(PLD) | 第16-17页 |
·化学气相沉积法(CVD) | 第17页 |
·喷雾热解法(Spray Pyrolysis) | 第17-18页 |
·分子束外延(MBE) | 第18页 |
·电子束蒸发法(E-beam evaporation) | 第18-19页 |
·溶胶—凝胶法(Sol-gel) | 第19-20页 |
·ZnO薄膜的分析技术 | 第20-24页 |
·X射线衍射(XRD)仪 | 第20-22页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第22-23页 |
·紫外—可见分光光度计 | 第23页 |
·荧光分光光度计 | 第23-24页 |
·本章小结 | 第24-26页 |
3 ZnO薄膜的蓝光发射机制研究 | 第26-35页 |
·ZnO薄膜的理论发光模型 | 第26-28页 |
·ZnO薄膜的蓝光发射机制研究进展 | 第28-32页 |
·锌填隙模型 | 第28-29页 |
·锌空位模型 | 第29-30页 |
·氧空位模型 | 第30-31页 |
·杂质引入模型 | 第31-32页 |
·ZnO薄膜的蓝光发射机制探讨 | 第32-33页 |
·本章小结 | 第33-35页 |
4 高温退火对生长在Si衬底上的不同结构ZnO薄膜的影响 | 第35-46页 |
·电子束蒸发法制备ZnO薄膜 | 第35-38页 |
·实验主要设备及原理 | 第35-38页 |
·实验方法与步骤 | 第38页 |
·实验结果与讨论 | 第38-45页 |
·不同退火温度对ZnO薄膜结构的影响分析 | 第38-40页 |
·不同退火温度对ZnO薄膜表面形貌的影响分析 | 第40-42页 |
·不同退火温度对ZnO薄膜发光特性的影响分析 | 第42-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
5 Mg-Fe复掺杂对znO薄膜的结构与光学性质的影响 | 第46-56页 |
·溶胶—凝胶法制备Mg-Fe复掺杂的ZnO薄膜 | 第46-48页 |
·实验主要设备及原料 | 第46页 |
·实验样品的制备与表征 | 第46-48页 |
·实验结果与讨论 | 第48-55页 |
·Mg-Fe复掺杂对ZnO薄膜结构的影响 | 第48-51页 |
·溶胶—凝胶法制备c轴择优取向ZnO薄膜的生长机制 | 第51-52页 |
·Mg-Fe复掺杂对ZnO薄膜光学性质的影响 | 第52-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
6 结论与展望 | 第56-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-64页 |
附录 | 第64页 |