低温生长SiO2钝化膜及其在太阳电池上的应用
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·世界光伏发电的发展 | 第10-11页 |
| ·国内外太阳电池的研究水平 | 第11-12页 |
| ·研究背景及意义 | 第12-13页 |
| ·本文研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 太阳电池工作原理和制造工艺 | 第14-31页 |
| ·太阳电池的工作原理及电学参数 | 第14-17页 |
| ·太阳电池的工作原理 | 第14-16页 |
| ·太阳电池的电学参数 | 第16-17页 |
| ·双层膜晶体硅太阳电池的制备工艺 | 第17-29页 |
| ·化学清洗及制备绒面 | 第18-20页 |
| ·在POCl_3 气氛中扩散制结 | 第20-21页 |
| ·去边和去背结 | 第21-22页 |
| ·热生长SiO_2 钝化膜 | 第22-26页 |
| ·沉积SiN_x 减反射膜 | 第26-29页 |
| ·印刷电极和烧结 | 第29页 |
| ·本章小节 | 第29-31页 |
| 第三章 理论模拟及在太阳电池上的应用 | 第31-41页 |
| ·MATLAB 模拟 | 第31-37页 |
| ·MATLAB 简介 | 第31页 |
| ·导纳特征矩阵法 | 第31-32页 |
| ·模拟结果及分析 | 第32-37页 |
| ·PC1D 模拟 | 第37-40页 |
| ·PC1D 简介 | 第37页 |
| ·模拟结果及分析 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 低温氧化钝化膜及特性分析 | 第41-52页 |
| ·低温氧化实验 | 第41-49页 |
| ·氧气流量的影响 | 第41-42页 |
| ·温度的影响 | 第42-43页 |
| ·氧化时间的影响 | 第43-45页 |
| ·氧化对硅片少子寿命的影响 | 第45-47页 |
| ·方块电阻对SiO_2 钝化效果的影响 | 第47-48页 |
| ·SiO_2 钝化膜的稳定性 | 第48-49页 |
| ·SiO_2/SINX双层膜太阳电池的制备 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 全文总结 | 第52-54页 |
| ·主要结论 | 第52-53页 |
| ·研究展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第60-63页 |
| 上海交通大学学位论文答辩决议书 | 第63页 |
