| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 致谢 | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-28页 |
| ·表面涂层制备技术 | 第13-20页 |
| ·热喷涂技术 | 第13-15页 |
| ·电沉积法 | 第15-17页 |
| ·气相沉积法 | 第17-20页 |
| ·磁控溅射技术 | 第20-26页 |
| ·溅射基本理论 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射工作原理 | 第23-24页 |
| ·非平衡磁控溅射技术 | 第24-26页 |
| ·液压杆件的使用特点和使用要求 | 第26页 |
| ·项目来源与研究内容、方法及意义 | 第26-28页 |
| ·项目来源 | 第26页 |
| ·论文研究内容及方法 | 第26-27页 |
| ·课题意义 | 第27-28页 |
| 第二章 非平衡磁控溅射制备 Cr/CrN 的工艺研究 | 第28-35页 |
| ·实验设备和实验参数 | 第28-30页 |
| ·薄膜沉积设备 | 第28-29页 |
| ·实验件的选择 | 第29页 |
| ·分析检测设备 | 第29页 |
| ·参数设置和实验流程 | 第29-30页 |
| ·实验结果分析 | 第30-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 UBM450-Ⅰ型闭合场非平衡磁控溅射设备的设计及计算 | 第35-50页 |
| ·设备主要技术指标及总体结构 | 第35-36页 |
| ·真空室及真空系统设计与选型 | 第36-45页 |
| ·真空室壁厚及上下盖设计 | 第36-39页 |
| ·真空系统设计 | 第39-42页 |
| ·基片架设计 | 第42-45页 |
| ·电气控制系统设计 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 非平衡磁控溅射靶优化设计 | 第50-60页 |
| ·磁控溅射靶磁场及磁路模型 | 第50-52页 |
| ·极靴对靶材表面水平磁场分布的影响 | 第52-53页 |
| ·磁铁尺寸对靶材表面水平磁场分布的影响 | 第53-54页 |
| ·磁轭尺寸对靶材表面水平磁场分布的影响 | 第54-55页 |
| ·磁控溅射靶优化设计 | 第55-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 附录 1 | 第65-66页 |