碳纳米管谐振器振动特性分析与制造技术研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 引言 | 第10-14页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第14-16页 |
| 1.3 主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 多壁碳纳米管多场耦合自由振动研究 | 第18-32页 |
| 2.1 多壁碳纳米管自由振动模型的建立 | 第18-19页 |
| 2.2 多壁碳纳米管所受外力分析 | 第19-21页 |
| 2.2.1 电场力 | 第19-20页 |
| 2.2.2 范德瓦耳斯力 | 第20-21页 |
| 2.2.3 阻尼力 | 第21页 |
| 2.3 多壁碳纳米管多场耦合自由振动分析 | 第21-26页 |
| 2.3.1 静态方程求解 | 第22-23页 |
| 2.3.2 动态方程求解 | 第23-26页 |
| 2.4 结果分析 | 第26-31页 |
| 2.4.1 多壁碳纳米管静态变形结果分析 | 第26-28页 |
| 2.4.2 自由振动结果分析 | 第28-31页 |
| 2.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 多壁碳纳米管非线性受迫振动研究 | 第32-45页 |
| 3.1 多壁碳纳米管谐振梁非线性受迫振动方程 | 第32-34页 |
| 3.2 多壁碳纳米管受迫振动方程求解 | 第34-37页 |
| 3.2.1 主共振幅频特性方程 | 第34-36页 |
| 3.2.2 二倍频共振幅频特性方程 | 第36-37页 |
| 3.3 碳纳米管谐振器幅频特性分析 | 第37-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 碳纳米管谐振器建模与仿真分析 | 第45-50页 |
| 4.1 碳纳米管谐振器建模 | 第45-47页 |
| 4.2 多壁碳纳米管静力学仿真 | 第47-48页 |
| 4.2.1 施加均布载荷静力学仿真 | 第47-48页 |
| 4.2.2 结果分析 | 第48页 |
| 4.3 多壁碳纳米管动力学仿真 | 第48-49页 |
| 4.3.1 模态分析 | 第48-49页 |
| 4.3.2 结果分析 | 第49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 碳纳米管谐振器制造技术研究 | 第50-75页 |
| 5.1 纳米机电系统加工方式选择 | 第50-52页 |
| 5.2 碳纳米管谐振器结构设计 | 第52-53页 |
| 5.3 碳纳米管谐振器门极加工工艺 | 第53-60页 |
| 5.3.1 碳纳米管谐振器门极制作工艺过程 | 第53-54页 |
| 5.3.2 电子束光刻门极 | 第54-57页 |
| 5.3.3 硅片二氧化硅层腐蚀 | 第57-60页 |
| 5.4 碳纳米管谐振器源极与漏极加工工艺 | 第60-70页 |
| 5.4.1 碳纳米管谐振器源极与漏极制作工艺过程 | 第60-61页 |
| 5.4.2 电子束光刻源极与漏极 | 第61-65页 |
| 5.4.3 蒸发镀源极与漏极 | 第65-66页 |
| 5.4.4 硅片表面光刻胶的去除 | 第66-67页 |
| 5.4.5 硅片氧化层腐蚀 | 第67-68页 |
| 5.4.6 实验出现的问题及注意事项 | 第68-70页 |
| 5.5 碳纳米管谐振器源极与漏极刻蚀工艺研究 | 第70-74页 |
| 5.5.1 源极与漏极制作工艺流程 | 第70-71页 |
| 5.5.2 源极与漏极电子束曝光工艺流程 | 第71-73页 |
| 5.5.3 源极与漏极的刻蚀工艺 | 第73页 |
| 5.5.4 实验出现的问题及注意事项 | 第73-74页 |
| 5.6 本章小结 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
