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磁光古斯—汉森效应及其应用研究

摘要第3-4页
abstract第4-5页
第一章 绪论第8-13页
    1.1 课题研究的重要意义第8页
    1.2 古斯-汉森位移及其研究进展第8-10页
        1.2.1 非镜面反射第8-9页
        1.2.2 古斯-汉森位移研究进展第9-10页
    1.3 光自旋霍尔效应及其研究进展第10-12页
        1.3.1 光自旋霍尔效应简介第10-11页
        1.3.2 光自旋霍尔效应研究进展第11-12页
    1.4 本文基本框架第12-13页
第二章 磁光古斯-汉森位移及光自旋霍尔效应研究方法第13-25页
    2.1 磁光古斯-汉森位移的理论研究方法第13-18页
        2.1.1 磁光转移矩阵法第13-16页
        2.1.2 静态相位法第16-17页
        2.1.3 高斯光束法第17-18页
    2.2 光自旋霍尔效应的理论研究方法第18-19页
    2.3 古斯-汉森位移及光自旋霍尔效应的弱测量第19-25页
        2.3.1 光自旋霍尔效应的弱测量装置第20页
        2.3.2 光自旋霍尔效应弱测量放大原理第20-22页
        2.3.3 古斯-汉森位移的弱测量装置第22-23页
        2.3.4 古斯-汉森位移弱测量放大原理第23-25页
第三章 磁光古斯-汉森位移及其传感特性第25-36页
    3.1 磁光表面等离子增强的古斯-汉森位移第25-28页
    3.2 石墨烯全反射结构中的古斯-汉森位移第28-34页
        3.2.1 石墨烯简介第28页
        3.2.2 结构模型与研究方法第28-30页
        3.2.3 计算结果与讨论第30-34页
    3.3 本章小结第34-36页
第四章 磁光光自旋霍尔效应及其传感特性第36-57页
    4.1 磁光介质薄膜中的光自旋霍尔效应测量第36-41页
        4.1.1 样品结构与参数选择第36-37页
        4.1.2 仿真分析及磁场传感第37-39页
        4.1.3 实验验证第39-41页
    4.2 石墨烯缺陷光子晶体中的光自旋霍尔效应第41-48页
        4.2.1 结构模型与计算方法第41-43页
        4.2.2 计算结果与讨论第43-48页
    4.3 左手材料衬底磁光薄膜中的光自旋霍尔效应第48-55页
        4.3.1 结构模型与计算方法第48-51页
        4.3.2 计算结果与讨论第51-55页
    4.4 本章小结第55-57页
第五章 总结与展望第57-59页
    5.1 本文工作总结第57-58页
    5.2 未来工作展望第58-59页
参考文献第59-65页
作者在读期间科研成果第65-66页
致谢第66-67页
附录 攻读硕士学位期间主要研究工作第67-68页

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