基于非晶硒膜的X射线探测器制作及性能研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 国内外研究现状 | 第8-10页 |
| 1.2 选题目的及意义 | 第10-11页 |
| 1.3 研究思路及基础 | 第11-12页 |
| 1.4 论文基本结构 | 第12-13页 |
| 第二章 非晶硒X辐射探测器件制备及表征 | 第13-24页 |
| 2.1 非晶硒膜的制备及表征 | 第13-20页 |
| 2.1.1 制备设备及原理 | 第13-14页 |
| 2.1.2 制备条件设置 | 第14-17页 |
| 2.1.3 非晶硒膜的制备 | 第17-18页 |
| 2.1.4 非晶硒膜的表征方法 | 第18-20页 |
| 2.2 非晶硒探测器制备及表征 | 第20-22页 |
| 2.2.1 电极制备 | 第20页 |
| 2.2.2 器件封装 | 第20-21页 |
| 2.2.3 非晶硒探测器的性能表征方法 | 第21-22页 |
| 2.3 本章小结 | 第22-24页 |
| 第三章 非晶硒结构、形貌及光学性质 | 第24-31页 |
| 3.1 结构与形貌 | 第24-27页 |
| 3.2 光学特性 | 第27-29页 |
| 3.3 本章小结 | 第29-31页 |
| 第四章 探测器电学和X射线响应 | 第31-44页 |
| 4.1 探测器I-V特性 | 第31-33页 |
| 4.2 探测器暗电导 | 第33-36页 |
| 4.3 探测器X辐射光电导响应 | 第36-43页 |
| 4.3.1 响应机理分析 | 第36-39页 |
| 4.3.2 X射线响应性能 | 第39-43页 |
| 4.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 结论与展望 | 第44-46页 |
| 5.1 结论 | 第44-45页 |
| 5.2 展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 作者在读期间科研成果简介 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 附录 攻读硕士学位期间主要研究工作 | 第51-53页 |
