| 摘要 | 第4-7页 |
| abstract | 第7-9页 |
| 第1章 引言 | 第17-51页 |
| 1.1 研究背景 | 第17-18页 |
| 1.2 干涉成像原理 | 第18-21页 |
| 1.3 像面干涉与瞳面干涉 | 第21-22页 |
| 1.4 光干涉阵列关键技术 | 第22-26页 |
| 1.4.1 UV覆盖技术 | 第22-23页 |
| 1.4.2 闭合相位技术 | 第23-25页 |
| 1.4.3 图像重构技术 | 第25-26页 |
| 1.5 现代光学干涉阵列 | 第26-34页 |
| 1.6 排布问题概述 | 第34页 |
| 1.7 前人研究总结 | 第34-50页 |
| 1.8 论文主要内容 | 第50-51页 |
| 第2章 成像效果与UV覆盖间的关系研究 | 第51-65页 |
| 2.1 概述 | 第51页 |
| 2.2 不同UV覆盖对点源目标的成像影响 | 第51-57页 |
| 2.3 不同UV覆盖对扩展目标的成像影响 | 第57-63页 |
| 2.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第3章 阵列排布与UV覆盖间的关系研究 | 第65-85页 |
| 3.1 不同阵列形状的UV覆盖特性比较 | 第66-72页 |
| 3.2 根据UV覆盖要求反推阵列排布 | 第72-83页 |
| 3.3 本章小结 | 第83-85页 |
| 第4章 常用阵列排布的成像分辨率研究 | 第85-109页 |
| 4.1 不同阵列形状下的PSF旁瓣亮度分析 | 第86-91页 |
| 4.2 平方律与“反平方律”排布下的Y形阵列PSF旁瓣亮度分析 | 第91-96页 |
| 4.3 实验验证 | 第96-107页 |
| 4.4 本章小结 | 第107-109页 |
| 第5章 通过移动子孔径增加UV覆盖的方法研究 | 第109-127页 |
| 5.1 问题的提出 | 第109-110页 |
| 5.2 总体思想 | 第110-111页 |
| 5.3 图像重构过程 | 第111-113页 |
| 5.4 阵列排布优化过程 | 第113-117页 |
| 5.5 仿真优化结果示例 | 第117-121页 |
| 5.6 实验结果示例 | 第121-125页 |
| 5.7 本章小结 | 第125-127页 |
| 第6章 与大口径望远镜组合使用的干涉阵列排布设计 | 第127-139页 |
| 6.1 排布设计方法 | 第128-132页 |
| 6.2 设计结果示例 | 第132-137页 |
| 6.3 本章小结 | 第137-139页 |
| 总结与展望 | 第139-141页 |
| 参考文献 | 第141-149页 |
| 致谢 | 第149-151页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第151-152页 |