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大型衍射光栅刻划机微定位系统控制器设计及光栅衍射波前校正技术研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第16-30页
    1.1 课题研究背景及意义第16-18页
    1.2 相关领域的研究现状第18-27页
        1.2.1 光栅刻划机的国内外研究现状第18-25页
        1.2.2 刻划光栅衍射波前研究的国内外研究现状第25-27页
    1.3 论文的主要研究内容及结构安排第27-30页
        1.3.1 论文的主要研究内容第27页
        1.3.2 论文的结构安排第27-30页
第2章 光栅刻线误差模型及光栅刻划机的工作原理第30-44页
    2.1 引言第30页
    2.2 光栅刻线误差模型第30-32页
    2.3 光栅刻划机工作方式和运行原理第32-35页
    2.4 大型衍射光栅刻划机结构形式和工作原理第35-43页
        2.4.1 大型衍射光栅刻划机刻划系统结构形式和工作原理第36-39页
        2.4.2 大型衍射光栅刻划机分度系统的结构形式和工作原理第39-43页
    2.5 本章小结第43-44页
第3章 光栅刻划微定位控制系统的建模及控制器设计第44-64页
    3.1 引言第44-45页
    3.2 大型衍射光栅刻划机的控制方案第45-47页
    3.3 大型衍射光栅刻划机微定位控制系统数学模型的建立第47-54页
        3.3.1 数学模型的建立第47-52页
        3.3.2 微定位系统的性能分析第52-54页
    3.4 大型衍射光栅刻划机微定位系统控制系统控制器设计第54-58页
        3.4.1 控制器设计第54-56页
        3.4.2 微定位控制系统仿真研究第56-58页
    3.5 实验研究第58-62页
        3.5.1 微定位控制系统对实测数据的跟踪第58-60页
        3.5.2 模拟刻划实验第60-61页
        3.5.3 光栅刻划实验第61-62页
    3.6 本章小节第62-64页
第4章 测量系统引起的刻线误差对光栅波前质量的影响及修正方法第64-96页
    4.1 引言第64-65页
    4.2 刻线误差对光栅波前质量的影响第65-66页
    4.3 大型衍射光栅刻划机测量系统第66-69页
        4.3.1 双频激光干涉仪的测量原理第67-68页
        4.3.2 测量系统的光路结构第68-69页
    4.4 测量系统的余弦误差对刻线位置误差的影响第69-71页
        4.4.1 测量系统余弦误差产生的原因第69-70页
        4.4.2 测量系统余弦误差的减小方法第70-71页
    4.5 测量系统的阿贝误差对刻线位置误差的影响第71-78页
        4.5.1 测量系统阿贝误差产生的原因第71-73页
        4.5.2 测量系统阿贝误差与光栅波前质量之间数学模型的建立第73-74页
        4.5.3 测量系统阿贝误差测量、仿真与校正第74-77页
        4.5.4 阿贝误差对波前质量影响的刻划实验研究第77-78页
    4.6 刻划机工作的环境对刻线误差的影响第78-93页
        4.6.1 大气环境产生刻线误差的原因第78-80页
        4.6.2 大气环境引起的测量误差对波前质量的影响第80-81页
        4.6.3 大气环境引起的测量误差的测量、仿真分析与校正第81-93页
    4.7 本章小节第93-96页
第5章 光栅基底镀膜引起的基底面形误差对波前质量的影响及镀膜均匀性的优化第96-110页
    5.1 引言第96-97页
    5.2 光栅基底面形误差对衍射波前质量的影响第97-98页
    5.3 光栅膜层均匀性对波前质量的影响第98-101页
    5.4 仿真和实验研究第101-108页
        5.4.1 镀膜均匀性优化前对光栅衍射波前质量的仿真和实验研究第101-103页
        5.4.2 镀膜均匀性的优化第103-106页
        5.4.3 镀膜均匀性优化后对光栅衍射波前质量的仿真和实验研究第106-108页
    5.5 本章小节第108-110页
第6章 总结与展望第110-114页
    6.1 论文工作总结第110-111页
    6.2 展望第111-114页
参考文献第114-122页
致谢第122-124页
作者简历及攻读学位期间发表的学位论文与研究成果第124-125页

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