摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第1章 绪论 | 第17-41页 |
1.1 课题研究背景及意义 | 第17-20页 |
1.2 光栅制作技术的演化与发展 | 第20-24页 |
1.3 大尺寸光栅的制作方法 | 第24-29页 |
1.4 国外大尺寸光栅刻划机的发展及现状 | 第29-35页 |
1.5 国内光栅刻划机技术发展现状以及存在的问题 | 第35-38页 |
1.6 主要研究内容和结构安排 | 第38-41页 |
1.6.1 论文主要内容 | 第38-39页 |
1.6.2 论文结构安排 | 第39-41页 |
第2章 光栅基础理论及光栅刻划机基本原理 | 第41-59页 |
2.1 引言 | 第41页 |
2.2 光栅的基础理论 | 第41-44页 |
2.3 机刻光栅的误差模型 | 第44-49页 |
2.3.1 光栅刻线误差的数学表达方法 | 第45-46页 |
2.3.2 光栅刻线误差的分解 | 第46-47页 |
2.3.3 光栅刻线误差对光栅性能的影响 | 第47-49页 |
2.4 光栅刻划机的几种典型运行方式 | 第49-52页 |
2.5 罗兰型光栅刻划机的三种刻划方式 | 第52-55页 |
2.6 光栅刻划机的总体设计方案 | 第55-57页 |
2.7 本章小结 | 第57-59页 |
第3章 大行程光栅刻划机分度系统概要设计 | 第59-71页 |
3.1 引言 | 第59页 |
3.2 光栅刻划机分度系统的总体设计方案 | 第59-60页 |
3.3 光栅刻划机分度系统主要宏定位传动部件设计 | 第60-70页 |
3.3.1 丝杠螺母副设计 | 第60-65页 |
3.3.2 工作台组件设计 | 第65-67页 |
3.3.3 分度系统导向机构设计 | 第67-70页 |
3.4 本章小结 | 第70-71页 |
第4章 丝杠螺母副误差理论及超精密研磨加工过程中的检测方法研究 | 第71-109页 |
4.1 引言 | 第71页 |
4.2 丝杠螺母副的误差理论 | 第71-81页 |
4.2.1 丝杠螺母副相关参数定义 | 第71-72页 |
4.2.2 丝杠螺母副的旋合性能 | 第72-75页 |
4.2.3 丝杠螺母副的传动精度 | 第75-81页 |
4.3 丝杠螺母副的超精密研磨加工及传动精度检测方法 | 第81-107页 |
4.3.1 丝杠螺母副的超精密研磨加工 | 第81-86页 |
4.3.2 丝杠螺母副超精密研磨过程中传动精度的动态检测方法 | 第86-107页 |
4.4 小结 | 第107-109页 |
第5章 双V形导轨副研磨加工过程及装调检测方法研究 | 第109-119页 |
5.1 引言 | 第109页 |
5.2 双V形导轨副的研磨加工过程 | 第109-112页 |
5.3 双V形导轨副的检测及装调方法 | 第112-116页 |
5.3.1 单组导轨直线度的检测方法 | 第112-114页 |
5.3.2 两组导轨平行性的检测及装调方法 | 第114-116页 |
5.4 研磨加工及装调环节的精度测量结果 | 第116-118页 |
5.5 小结 | 第118-119页 |
第6章 分度系统宏定位环节运行精度测试 | 第119-131页 |
6.1 引言 | 第119页 |
6.2 分度系统宏定位环节运行精度测试 | 第119-128页 |
6.2.1 分度系统驱动电机运行精度测试结果 | 第119-121页 |
6.2.2 分度系统宏定位环节位置及摆角精度测试方法 | 第121-122页 |
6.2.3 分度系统宏定位环节的静态保持精度测试 | 第122-123页 |
6.2.4 分度系统宏定位环节的总体运行精度测试过程及结果 | 第123-128页 |
6.3 本章小结 | 第128-131页 |
第7章 总结与展望 | 第131-135页 |
7.1 论文工作总结 | 第131-133页 |
7.2 展望 | 第133-135页 |
参考文献 | 第135-143页 |
致谢 | 第143-145页 |
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第145-146页 |