| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 1 绪论 | 第13-32页 |
| 1.1 离子交换膜简述 | 第13-15页 |
| 1.1.1 离子交换膜的定义 | 第13页 |
| 1.1.2 离子交换膜的分类 | 第13-15页 |
| 1.2 膜技术发展概况 | 第15-17页 |
| 1.2.1 膜技术发展简史 | 第15-16页 |
| 1.2.2 我国离子交换膜发展概况 | 第16-17页 |
| 1.3 离子交换膜选择透过性理论 | 第17-20页 |
| 1.3.1 Donnan平衡理论 | 第17-19页 |
| 1.3.2 Sonller双电层理论 | 第19页 |
| 1.3.3 电位封闭理论 | 第19-20页 |
| 1.4 离子交换膜的制备进展 | 第20-24页 |
| 1.4.1 均相离子交换膜的制备 | 第20-21页 |
| 1.4.2 异相离子交换膜的制备 | 第21-22页 |
| 1.4.3 离子交换膜的制备改进 | 第22-24页 |
| 1.5 课题背景 | 第24-26页 |
| 1.5.1 双膜三室冶金体系 | 第24-25页 |
| 1.5.2 研究目的及意义 | 第25页 |
| 1.5.3 研究内容 | 第25-26页 |
| 1.6 离子交换膜的性能表征 | 第26-32页 |
| 1.6.1 离子交换膜的主要性能要求 | 第26-27页 |
| 1.6.2 常规指标 | 第27-30页 |
| 1.6.3 氯离子泄漏率 | 第30-32页 |
| 2 PVDF/半互穿网络结构磺酸聚合物的制备 | 第32-41页 |
| 2.1 引言 | 第32-33页 |
| 2.2 实验药品及仪器 | 第33-34页 |
| 2.2.1 实验药品 | 第33页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第33-34页 |
| 2.3 PVDF/半互穿网络结构磺酸聚合物制备方法 | 第34-35页 |
| 2.3.1 制备流程 | 第34页 |
| 2.3.2 PVDF/半互穿网络结构磺酸聚合物的制备 | 第34-35页 |
| 2.4 傅里叶红外光谱分析 | 第35页 |
| 2.5 磺化反应过程 | 第35-40页 |
| 2.5.1 磺化时间对磺化反应的影响 | 第36-37页 |
| 2.5.2 磺化温度对磺化反应的影响 | 第37-38页 |
| 2.5.3 溶胀剂对磺化反应的影响 | 第38-39页 |
| 2.5.4 催化剂对磺化反应的影响 | 第39-40页 |
| 2.6 小结 | 第40-41页 |
| 3 PVDF/半互穿网络结构离子交换膜的制备 | 第41-55页 |
| 3.1 引言 | 第41页 |
| 3.2 实验药品及设备 | 第41-42页 |
| 3.2.1 实验药品 | 第41页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第41-42页 |
| 3.3 PVDF/半互穿网络结构离子交换膜的制备方法 | 第42-43页 |
| 3.3.1 制备流程 | 第42页 |
| 3.3.2 PVDF/半互穿网络结构离子交换膜的制备 | 第42-43页 |
| 3.4 SEM扫描分析 | 第43-45页 |
| 3.5 DVB含量对膜性能的影响 | 第45-49页 |
| 3.5.1 IEC | 第45-46页 |
| 3.5.2 氯离子泄漏率 | 第46-47页 |
| 3.5.3 膜面电阻 | 第47-48页 |
| 3.5.4 耐破度 | 第48-49页 |
| 3.6 PVDF含量对膜性能的影响 | 第49-53页 |
| 3.6.1 IEC | 第49-50页 |
| 3.6.2 氯离子泄漏率 | 第50-51页 |
| 3.6.3 膜面电阻 | 第51-52页 |
| 3.6.4 耐破度 | 第52-53页 |
| 3.7 小结 | 第53-55页 |
| 4 在膜法冶金技术中的应用 | 第55-62页 |
| 4.1 引言 | 第55页 |
| 4.2 实验方法 | 第55-56页 |
| 4.3 应用表现 | 第56-60页 |
| 4.3.1 膜性能指标对比 | 第56页 |
| 4.3.2 膜法冶金体系中的运行电阻 | 第56-57页 |
| 4.3.3 氯离子泄露率 | 第57-58页 |
| 4.3.4 运行稳定性实验 | 第58-59页 |
| 4.3.5 耐温性能 | 第59-60页 |
| 4.4 小结 | 第60-62页 |
| 5 结论与建议 | 第62-64页 |
| 5.1 结论 | 第62-63页 |
| 5.2 建议 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 攻读学位期间研究成果 | 第69页 |
