| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 前言 | 第10-16页 |
| 1.1 高压物理学简介 | 第10-11页 |
| 1.2 高压装置 | 第11-14页 |
| 1.2.1 金刚石对顶砧 | 第11-13页 |
| 1.2.2 金刚石对顶砧的应用 | 第13-14页 |
| 1.3 高压电学研究的意义 | 第14页 |
| 1.4 论文的选题目的和意义 | 第14-15页 |
| 1.5 本论文各部分的主要内容 | 第15-16页 |
| 第二章 高压原位电学测量集成技术和测量方法 | 第16-28页 |
| 2.1 金刚石压砧上微电路的制备工艺 | 第16-22页 |
| 2.1.1 金属钼电极的溅射 | 第16-17页 |
| 2.1.2 金属钼电极的图形化 | 第17-18页 |
| 2.1.3 氧化铝绝缘保护层的制备 | 第18-19页 |
| 2.1.4 Van Der Pauw 电极制备过程 | 第19-21页 |
| 2.1.5 双电极的制备过程 | 第21-22页 |
| 2.2 直流电阻率测量方法 | 第22-23页 |
| 2.3 交流阻抗谱的测量方法 | 第23-26页 |
| 2.3.1 交流阻抗谱法原理 | 第23-24页 |
| 2.3.2 交流阻抗谱的表示方法 | 第24-25页 |
| 2.3.3 交流阻抗谱法在高压物理中的应用 | 第25-26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-28页 |
| 第三章 C_(70)的高压原位阻抗谱测量 | 第28-41页 |
| 3.1 C_(70)的结构和性质 | 第28-29页 |
| 3.2 C_(70)的高压研究背景 | 第29-33页 |
| 3.3 C_(70)高压阻抗谱测量结果 | 第33-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 C_(70)的高压电阻率及拉曼研究 | 第41-51页 |
| 4.1 高压下 C_(70)直流电阻率测量 | 第41-47页 |
| 4.1.1 电极测试 | 第41-43页 |
| 4.1.2 高压下 C_(70)电阻率的测量 | 第43-45页 |
| 4.1.3 高压下 C_(70)电阻率与温度的关系 | 第45-47页 |
| 4.2 C_(70)高压拉曼光谱 | 第47-50页 |
| 4.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 总结 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-60页 |
| 作者简介 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |