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可见光响应半导体光催化剂制备及其性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-26页
    1.1 TiO_2改性以增强其可见光催化活性第10-20页
        1.1.1 氟化对TiO_2可见光催化性能的影响第11-15页
        1.1.2 氢化处理对TiO_2可见光催化活性的影响第15-17页
        1.1.3 等离子体处理对TiO_2可见光催化活性的影响第17-20页
    1.2 新型磷酸银半导体光催化剂的研究现状第20-25页
    1.3 本论文的研究思路和内容第25-26页
2 实验部分第26-34页
    2.1 实验原料及设备第26-27页
        2.1.1 实验原料第26页
        2.1.2 实验设备第26-27页
    2.2 光催化剂的制备第27页
    2.3 光催化剂的性能评价第27-30页
        2.3.1 光催化反应装置第27-28页
        2.3.2 羟基自由基浓度的检测第28-29页
        2.3.3 光催化降解亚甲基蓝(MB)染料第29-30页
    2.4 催化剂表征第30-34页
        2.4.1 X射线衍射(XRD)第30页
        2.4.2 紫外-可见漫反射光谱(DRS)第30页
        2.4.3 拉曼光谱(Raman)第30-31页
        2.4.4 荧光发射光谱(PL)第31页
        2.4.5 X射线光电子能谱(XPS)第31页
        2.4.6 场发射扫描电子显微镜(FESEM)及X射线能量色散谱(EDS)第31-32页
        2.4.7 透射电子显微镜(TEM)第32页
        2.4.8 N_2物理吸附第32-33页
        2.4.9 电子自旋顺磁共振波谱(EPR)第33-34页
3 H_2等离子体辅助制备具有丰富氧空位的介孔氟化TiO_2及其可见光催化性能研究第34-49页
    3.1 引言第34-35页
    3.2 实验部分第35-36页
        3.2.1 氟化TiO_2的制备第35页
        3.2.2 介质阻挡等离子体放电发生装置第35-36页
        3.2.3 H_2等离子体处理表面氟化TiO_2第36页
        3.2.4 光催化性能评价及羟基自由基检测第36页
    3.3 结果与讨论第36-48页
        3.3.1 水热过程中HF含量对获得的氟化TiO_2催化性能的影响第36-38页
        3.3.2 H_2等离子体处理F-TiO_2得到F-TiO_(2-x)结构表征及性能研究第38-47页
        3.3.3 H_2等离子体处理时间对F-TiO_2材料性能的影响第47-48页
    3.4 本章小结第48-49页
4 表面活性剂辅助共沉淀制备Ag_3PO_4及其可见光催化活性研究第49-57页
    4.1 引言第49-50页
    4.2 实验部分第50页
        4.2.1 不同Ag_3PO_4催化剂的制备第50页
        4.2.2 催化性能的评价第50页
    4.3 结果与讨论第50-56页
        4.3.1 催化剂XRD及光谱分析第50-52页
        4.3.2 制备过程中加入SDS的含量对Ag_3PO_4可见光催化性能的影响第52-53页
        4.3.3 表面活性剂加入次序对催化剂性能的影响第53页
        4.3.4 催化剂的SEM与EDS分析第53-55页
        4.3.5 制备过程加入不同类型表面活性剂对催化剂催化性能的影响第55-56页
    4.4 本章小结第56-57页
结论第57-58页
参考文献第58-67页
附录A 附录内容名称第67-68页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第68-69页
致谢第69-70页

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