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几类复杂设计的均匀性质研究

内容摘要第5-9页
Abstract第9-14页
第一章 绪论第21-31页
    1.1 研究概述第21-25页
    1.2 论文创新点及结构第25-26页
    1.3 预备知识第26-31页
第二章 二三混水平拓展设计及其优良性评价第31-51页
    2.1 二三混水平拓展设计的偏差第31-37页
    2.2 二三混水平拓展设计偏差的下界:初始设计有良好的正交性第37-46页
    2.3 数值例子第46-51页
第三章 高水平拓展设计及其优良性评价第51-59页
    3.1 高水平拓展设计的偏差第51-53页
    3.2 高水平拓展设计偏差的下界第53-57页
    3.3 数值例子第57-59页
第四章 拓展设计的投影均匀性第59-73页
    4.1 二水平拓展设计的投影均匀性第59-63页
    4.2 二水平拓展设计均匀性模式的下界第63-68页
    4.3 数值例子第68-73页
第五章 定量因子设计的投影均匀性第73-89页
    5.1 定量因子设计的均匀性模式第73-79页
    5.2 定量因子设计的均匀性模式的下界第79-83页
    5.3 数值例子第83-89页
第六章 最小投影均匀定量因子设计的构造第89-102页
    6.1 平均均匀性模式第89-91页
    6.2 平均均匀性模式的统计评价第91-97页
    6.3 平均均匀性模式的下界第97-98页
    6.4 数值例子第98-102页
第七章 边际配对偏差(MCD)及其性质第102-118页
    7.1 边际配对偏差的解析表达式第102-105页
    7.2 边际配对偏差的统计评价第105-111页
    7.3 边际配对变差的下界第111-115页
    7.4 数值例子第115-118页
第八章 一类新的构造四水平设计的方法及其性质第118-136页
    8.1 新的构造方法的表现评价第118-123页
    8.2 基于基石设计的一个混合偏差的下界第123-126页
    8.3 一种有效的构造策略:基于Doubling技术第126-129页
    8.4 Doubling技术下构造出的设计的混合偏差的下界第129-130页
    8.5 数值例子第130-136页
第九章 结论与展望第136-139页
    9.1 本文主要结论第136-137页
    9.2 研究展望第137-139页
参考文献第139-148页
攻读学位期间已发表和待发表的学术论文第148-149页
攻读学位期间参加的学术活动第149-150页
致谢第150页

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