摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第13-47页 |
1.1 引言 | 第13页 |
1.2 SALDI质谱的发展及其应用 | 第13-30页 |
1.2.1 碳材料在SALDI质谱的应用 | 第15-20页 |
1.2.2 金属及金属氧化物在SALDI质谱的应用 | 第20-23页 |
1.2.3 硅微纳结构在SALDI质谱的应用 | 第23-29页 |
1.2.4 其他无机材料在SALDI质谱的应用 | 第29-30页 |
1.3 硅微纳结构的制备方法 | 第30-45页 |
1.3.1 金属催化刻蚀的方法和机制 | 第31-36页 |
1.3.2 利用金属催化刻蚀制备硅微纳结构 | 第36-45页 |
1.4 本文的研究思路及主要内容 | 第45-47页 |
第二章 利用金属催化刻蚀制备具有超低反射率的硅纳米柱阵列.. | 第47-57页 |
2.1 引言 | 第47-48页 |
2.2 实验部分 | 第48-49页 |
2.2.1 试剂与仪器 | 第48-49页 |
2.2.2 金属纳米孔模板的制备 | 第49页 |
2.2.3 硅纳米柱阵列的制备 | 第49页 |
2.3 结果与讨论 | 第49-55页 |
2.3.1 不同高度的硅纳米柱阵列的制备 | 第49-52页 |
2.3.2 硅纳米柱的高度对其反射光谱的影响 | 第52-53页 |
2.3.3 硅纳米柱的直径对其反射光谱的影响 | 第53-55页 |
2.4 本章小结 | 第55-57页 |
第三章 基于金属催化刻蚀制备倾斜角度可精确调控的硅纳米锥阵列 | 第57-67页 |
3.1 引言 | 第57-58页 |
3.2 实验部分 | 第58-59页 |
3.2.1 试剂与仪器 | 第58页 |
3.2.2 制备有序金纳米孔阵列 | 第58-59页 |
3.2.3 利用金属催化刻蚀制备硅纳米锥阵列 | 第59页 |
3.3 结果与讨论 | 第59-66页 |
3.3.1 硅纳米锥阵列的制备 | 第59页 |
3.3.2 硅纳米结构倾斜角度形成的机理 | 第59-60页 |
3.3.3 刻蚀时间对硅纳米结构倾斜角度的影响 | 第60-61页 |
3.3.4 H2O2和HF的比例对硅纳米结构倾斜角度的影响 | 第61-63页 |
3.3.5 H2O2和HF的浓度对硅纳米结构倾斜角度的影响 | 第63-64页 |
3.3.6 不同周期对硅纳米锥倾斜角度的影响 | 第64-65页 |
3.3.7 硅纳米锥倾斜角度对其反射率的影响 | 第65-66页 |
3.4 本章总结 | 第66-67页 |
第四章 利用带有亲水点的疏水硅锥阵列增强SALDI质谱的重复性 | 第67-79页 |
4.1 引言 | 第67-68页 |
4.2 实验部分 | 第68-69页 |
4.2.1 试剂与仪器 | 第68-69页 |
4.2.2 制备带有亲水点的疏水硅锥阵列 | 第69页 |
4.2.3 样品准备 | 第69页 |
4.2.4 SALDI质谱测试分析 | 第69页 |
4.3 结果与讨论 | 第69-77页 |
4.3.1 带有亲水点阵的疏水硅锥阵列的制备 | 第69-70页 |
4.3.2 分析物溶液体积对沉积点面积的影响 | 第70-71页 |
4.3.3 硅纳米锥阵列的高度对质谱信号的信噪比的影响 | 第71-73页 |
4.3.4 具有亲水点的疏水硅锥阵列的基底的重复性测试 | 第73-74页 |
4.3.5 利用SALDI对R6G的定量分析 | 第74-76页 |
4.3.6 利用孔雀石绿验证该方法的可靠性 | 第76-77页 |
4.4 本章小结 | 第77-79页 |
第五章 利用具有特殊表面浸润性的硅微米柱提高SALDI质谱的灵敏度与重复性 | 第79-91页 |
5.1 引言 | 第79-80页 |
5.2 实验部分 | 第80-82页 |
5.2.1 试剂与仪器 | 第80-81页 |
5.2.2 制备可见的硅纳米柱 | 第81-82页 |
5.2.3 样品准备以及SALDI质谱测试 | 第82页 |
5.3 结果与讨论 | 第82-89页 |
5.3.1 刻蚀时间对硅柱的影响 | 第82-83页 |
5.3.2 作为SALDI基底的硅柱的选择 | 第83-84页 |
5.3.3 分析物溶液在硅柱上的蒸发 | 第84-85页 |
5.3.4 对不同种类的分析物的SALDI测试 | 第85-87页 |
5.3.5 SALDI质谱的重复性和定量分析 | 第87-89页 |
5.4 本章小结 | 第89-91页 |
第六章 全文总结 | 第91-95页 |
参考文献 | 第95-119页 |
攻读博士期间发表论文 | 第119-121页 |
作者简介 | 第121-123页 |
致谢 | 第123页 |